| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-5页 |
| 第1章 引言 | 第5-15页 |
| ·等离子体物理的发展 | 第5-6页 |
| ·等离子体基本理论 | 第6-9页 |
| ·等离子体源离子注入技术简介 | 第9-13页 |
| ·国内外等离子体源离子注入技术的发展与展望 | 第13-14页 |
| ·本文完成工作简介 | 第14-15页 |
| 第2章 等离子体源离子注入过程中鞘层演化的研究方法 | 第15-21页 |
| ·解析法 | 第15-17页 |
| ·流体动力学方法 | 第17-18页 |
| ·蒙特卡罗（MONTE CARLO）方法 | 第18-19页 |
| ·PIC（PARTICLE-IN-CELL）方法 | 第19-21页 |
| 第3章 空心圆管内等离子体源离子注入鞘层的数值模拟 | 第21-23页 |
| ·计算机模拟 | 第21-22页 |
| ·PSII 过程中的流体动力学求解方法 | 第22-23页 |
| 第4章 模拟结果及讨论 | 第23-43页 |
| ·空心圆管内一维数值模拟结果 | 第23-33页 |
| ·无附加电极研究结果 | 第23-28页 |
| ·有附加电极研究结果 | 第28-33页 |
| ·空心圆管内两维数值模拟结果 | 第33-43页 |
| ·附加电极半径对空心圆管端点附近离子注入剂量的影响 | 第33-39页 |
| ·空心圆管的管壁厚度对其端点附近离子注入剂量的影响 | 第39-43页 |
| 第5章 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 附录 | 第49-50页 |
