| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第1章 导论 | 第10-19页 |
| ·光子晶体简介 | 第10-15页 |
| ·红外热释电探测技术 | 第15-17页 |
| ·本论文拟开展的研究方案及可行性分析 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要工作 | 第18-19页 |
| 第2章 多孔氧化硅一维光子晶体原理及制备 | 第19-38页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第19-20页 |
| ·多孔硅在一维光子晶体的应用 | 第20-21页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体原理 | 第21-22页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体试验设备与原理 | 第22-30页 |
| ·多孔氧化硅的一维光子晶体制备工艺流程 | 第30-31页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体制备工艺的参数讨论 | 第31-35页 |
| ·最佳氧化时间的寻找 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 中红外波段多孔氧化硅一维光子晶体设计 | 第38-45页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体折射率的计算 | 第38-39页 |
| ·多层膜生长速率的测定 | 第39页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体的理论模拟与实验拟合 | 第39-42页 |
| ·多孔氧化硅一维光子晶体的禁带模拟 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 多孔氧化硅一维光子晶体的氧化行为研究 | 第45-51页 |
| ·微观结构的分析 | 第45-46页 |
| ·光学性质的测试与分析 | 第46-49页 |
| ·氧化对晶粒尺寸的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 工作在远红外波段的多孔氧化硅一维光子晶体的初步探讨 | 第51-55页 |
| ·制作的意义 | 第51页 |
| ·制作步骤 | 第51页 |
| ·微结构及红外反射谱分析 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第62页 |