| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·巨磁阻抗效应的应用 | 第8-11页 |
| ·巨磁电阻效应 | 第8-9页 |
| ·巨磁阻抗效应的几种典型应用 | 第9-11页 |
| ·巨磁阻抗效应的定义及分类 | 第11-13页 |
| ·巨磁阻抗效应大小的定义 | 第11-12页 |
| ·薄膜巨磁阻抗效应的分类 | 第12-13页 |
| ·巨磁阻抗效应的理论解释 | 第13-17页 |
| ·单层薄膜材料的巨磁阻抗效应 | 第13-16页 |
| ·多层复合结构薄膜材料的巨磁阻抗效应 | 第16-17页 |
| ·论文的选题目的和意义 | 第17-19页 |
| 第二章 巨磁阻抗薄膜材料的制备 | 第19-38页 |
| ·利用真空蒸镀法制备FeSiB单层薄膜 | 第19-31页 |
| ·真空蒸发镀膜技术的基本原理 | 第19页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第19-20页 |
| ·FeSiB单层薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·GMI的测量 | 第23-25页 |
| ·测量结果及讨论 | 第25-28页 |
| ·增加直流磁场后的检测 | 第28-29页 |
| ·可调节恒定磁场的改进方法 | 第29-31页 |
| ·利用真空蒸镀法制备FeSiB/Cu/FeSiB多层膜薄膜 | 第31-34页 |
| ·制备及检测 | 第31-32页 |
| ·分析结果及讨论 | 第32-34页 |
| ·提出一种可改进真空蒸镀制备FeSiB薄膜的新方法 | 第34-36页 |
| ·改变合金比例对薄膜比例的影响 | 第34-35页 |
| ·对三种样品的阻抗测量及结果分析 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 巨磁阻抗材料的检测系统 | 第38-55页 |
| ·巨磁阻抗材料特性的测量原理 | 第38-39页 |
| ·巨磁阻抗材料特性的测量方法介绍 | 第39-44页 |
| ·巨磁阻抗效应演示实验 | 第39-40页 |
| ·CPPC四探针连接法 | 第40-41页 |
| ·线圈检测法 | 第41-44页 |
| ·巨磁阻抗材料特性测量的实验仪设计 | 第44-48页 |
| ·硬件设计 | 第44-47页 |
| ·软件设计 | 第47-48页 |
| ·硬软件的具体改进并检测 | 第48-54页 |
| ·硬件改进 | 第48-49页 |
| ·软件改进 | 第49-51页 |
| ·测量分析 | 第51-53页 |
| ·对已制备FeSiB薄膜样品的测量 | 第53-54页 |
| ·本章小节 | 第54-55页 |
| 第四章 总结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录:检测系统VB源程序 | 第61-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78-80页 |