| 第一章 绪论 | 第1-22页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·蔗糖生产工艺过程 | 第12-18页 |
| ·提汁 | 第13-14页 |
| ·澄清 | 第14-15页 |
| ·蒸发与加热 | 第15-16页 |
| ·煮炼 | 第16-17页 |
| ·过饱和度测量方法 | 第17-18页 |
| ·过饱和系数软测量模型的提出 | 第18页 |
| ·软测量技术发展状况 | 第18-19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-21页 |
| ·论文的主要内容 | 第21页 |
| ·论文的框架 | 第21-22页 |
| 第二章 软测量技术概述 | 第22-29页 |
| ·软测量技术 | 第22页 |
| ·软测量技术的数学描述 | 第22-23页 |
| ·软仪表构造 | 第23-24页 |
| ·软测量模型二次变量的选择 | 第24-25页 |
| ·变量类型的选择 | 第24页 |
| ·变量数目的选择 | 第24-25页 |
| ·检测点位置的选择 | 第25页 |
| ·软测量技术的建模方法 | 第25-29页 |
| ·机理建模 | 第25-26页 |
| ·基于机理分析和回归分析结合的方法 | 第26页 |
| ·基于状态估计的方法 | 第26页 |
| ·基于输入输出估计的方法 | 第26页 |
| ·基于回归分析方法 | 第26-27页 |
| ·基于人工神经网络的软测量方法 | 第27-28页 |
| ·基于模糊技术的方法 | 第28页 |
| ·基于模式识别的方法 | 第28-29页 |
| 第三章 基于回归分析的软测量方法 | 第29-37页 |
| ·线性回归 | 第29-30页 |
| ·多元线性回归 | 第30-31页 |
| ·主元回归 | 第31-32页 |
| ·部分最小二乘法(PLS) | 第32-33页 |
| ·回归函数系数的估计 | 第33-35页 |
| ·回归系数的显著性检验 | 第35-36页 |
| ·线性回归分析中自变量的选择 | 第36-37页 |
| 第四章 煮糖结晶过程 | 第37-54页 |
| ·母液中晶核的形成 | 第37-38页 |
| ·蔗糖晶体的长大 | 第38-39页 |
| ·影响蔗糖结晶的主要因素 | 第39-40页 |
| ·蔗糖结晶生长动力学 | 第40-48页 |
| ·晶体生长的扩散学说 | 第40-41页 |
| ·蔗糖晶体的生长速度 | 第41-43页 |
| ·晶体长大的影响因素 | 第43-47页 |
| ·与粒度相关的晶体生长 | 第47页 |
| ·与粒度无关的晶体生长 | 第47-48页 |
| ·生长分散 | 第48页 |
| ·蔗糖溶解度与饱和系数的关系 | 第48-49页 |
| ·过饱和度系数 | 第49-54页 |
| ·过饱和系数的测定 | 第49-52页 |
| ·过饱和曲线 | 第52-54页 |
| 第五章 过饱和度软测量模型的建立 | 第54-73页 |
| ·WRIGHT公式计算过饱和度 | 第54-56页 |
| ·过饱和度相关的二次变量 | 第56页 |
| ·过饱和度软测量的实现 | 第56-59页 |
| ·建立过饱和度软测量模型的流程 | 第56-57页 |
| ·温度为恒值，以锤度为二次变量建立软测量模型的流程 | 第57-58页 |
| ·温度和锤度为二次变量建立过饱和度软测量模型的流程 | 第58-59页 |
| ·仿真结果 | 第59-72页 |
| ·温度为定值时，一次软测量模型 | 第59-60页 |
| ·温度为定值时，二次软测量模型 | 第60-62页 |
| ·温度为定值时，三次软测量模型 | 第62-63页 |
| ·温度为定值时，母液饱和段和不饱和段这两段的软测量模型 | 第63-66页 |
| ·温度和锤度作为二次变量得出过饱和度的软测量模型 | 第66-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
| 声明 | 第78-79页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第79页 |
