高介电性能纳米复合阳极氧化膜的研究
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
1 绪论 | 第7-18页 |
·引言 | 第7页 |
·铝的阳极氧化 | 第7-14页 |
·阳极氧化铝膜简介 | 第7-8页 |
·纳米阳极氧化铝膜的制备 | 第8-9页 |
·纳米阳极氧化膜的形成机理 | 第9-13页 |
·阻挡层形成理论研究 | 第9-10页 |
·多孔层形成理论研究 | 第10-13页 |
·纳米阳极氧化铝膜的应用 | 第13-14页 |
·复合膜研究进展 | 第14-16页 |
·研究复合膜的意义 | 第14页 |
·制备复合氧化膜的常见方法 | 第14-16页 |
·Sol-Gel法 | 第15页 |
·水解沉积法 | 第15-16页 |
·电化学沉积法 | 第16页 |
·本论文的主要工作 | 第16-18页 |
2 多孔阳极氧化膜的制备及表征 | 第18-29页 |
·引言 | 第18页 |
·实验部分 | 第18-21页 |
·实验原料及仪器 | 第18-20页 |
·多孔阳极氧化铝膜的制备 | 第20-21页 |
·测试方法 | 第21页 |
·结果与讨论 | 第21-28页 |
·不同电解液阳极氧化U-t曲线的比较 | 第21-22页 |
·多孔氧化膜形成过程中的介电性能变化 | 第22-25页 |
·扫描电镜分析 | 第25-26页 |
·氧化膜能谱分析 | 第26-27页 |
·X射线衍射分析氧化膜的结晶形态 | 第27-28页 |
·本章小结 | 第28-29页 |
3 多孔型高介电性能纳米复合氧化膜的制备及表征 | 第29-38页 |
·引言 | 第29页 |
·实验部分 | 第29-30页 |
·模型设计 | 第29-30页 |
·测试部分 | 第30页 |
·结果与讨论 | 第30-37页 |
·多孔膜为基体复合氧化膜介电行为研究 | 第30-33页 |
·复合膜表面形态分析 | 第33-34页 |
·复合氧化膜组成分析 | 第34-36页 |
·复合氧化膜晶型结构分析 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
4 壁垒型高介电性能复合氧化膜制备及表征 | 第38-45页 |
·引言 | 第38页 |
·实验部分 | 第38-39页 |
·形成液闪火电压的测定 | 第38-39页 |
·壁垒型氧化膜的制备 | 第39页 |
·直流电沉积制备高介电复合氧化膜 | 第39页 |
·测试部分 | 第39页 |
·结果与讨论 | 第39-44页 |
·电压因素对壁垒型氧化膜形成过程的影响 | 第39-40页 |
·复合氧化膜介电行为研究 | 第40-42页 |
·SEM分析 | 第42-43页 |
·复合膜组成分析 | 第43-44页 |
·本章小节 | 第44-45页 |
5 复合氧化膜形成机理研究 | 第45-49页 |
·电沉积过程分析 | 第45-46页 |
·复合氧化膜形成过程 | 第46-48页 |
·担阳极的溶解 | 第46页 |
·液相传质过程 | 第46页 |
·阴极表面的反应 | 第46-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
6 全文总结 | 第49-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-56页 |
附录 | 第56页 |