CMP设备监控系统的设计与开发
独创性说明 | 第1-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-18页 |
·课题的选题背景及来源 | 第8-9页 |
·硅片加工工艺及 CMP技术概述 | 第9-12页 |
·硅片加工工艺概述 | 第9-10页 |
·化学机械抛光技术概述 | 第10-12页 |
·CMP设备概述 | 第12-14页 |
·CMP设备监控系统的发展和现状 | 第14-16页 |
·国外研究及发展概况 | 第14-16页 |
·国内研究及发展概况 | 第16页 |
·论文的主要研究内容 | 第16-18页 |
2 CMP设备监控系统功能及总体构成 | 第18-37页 |
·CMP设备监控系统功能 | 第18-20页 |
·监控系统总体构成 | 第20-37页 |
·抛光压力的在线监测和控制单元 | 第20-27页 |
·真空吸盘真空度实时监测和动作控制单元 | 第27-30页 |
·抛光头的摆动运动控制单元 | 第30-33页 |
·抛光头与抛光盘的旋转动作控制单元 | 第33-37页 |
3 CMP设备监控系统的硬件开发 | 第37-50页 |
·计算机监控系统的构成 | 第37-38页 |
·CMP设备监控系统硬件的总体设计 | 第38-41页 |
·基于 PCI总线的数据采集系统 | 第39-40页 |
·基于 PCI总线的运动控制系统 | 第40-41页 |
·硬件系统的组成 | 第41-45页 |
·运动控制卡的选用 | 第41-43页 |
·数据采集卡的选用 | 第43-44页 |
·串口通讯装置的选用 | 第44-45页 |
·监控系统硬件接口设计 | 第45-50页 |
·运动控制卡相关接口设计 | 第45-46页 |
·数据采集卡相关接口设计 | 第46-48页 |
·电磁阀的互锁 | 第48-50页 |
4 CMP设备监控系统的软件设计 | 第50-67页 |
·CMP设备监控系统软件总体设计 | 第50-54页 |
·系统软件的开发环境和相关技术 | 第54-55页 |
·面向对象的程序设计 | 第54页 |
·Visual C++ 软件平台 | 第54-55页 |
·系统软件模块功能及实现 | 第55-67页 |
·参数设置模块 | 第55-56页 |
·运动控制模块 | 第56-60页 |
·数据采集模块 | 第60-62页 |
·数据处理模块 | 第62-65页 |
·扩展模块 | 第65-67页 |
5 CMP设备监控系统功能的实现与调试 | 第67-72页 |
·CMP设备监控系统试验装置的设计 | 第67-70页 |
·硬件与软件调试 | 第67-68页 |
·总体调试结果 | 第68-70页 |
·系统参数调试 | 第70-72页 |
结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-76页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第76-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第78页 |