| 摘 要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·真空灭弧室国内外发展概况 | 第9-10页 |
| ·真空灭弧室的基本结构和工作原理 | 第10-12页 |
| ·真空灭弧室的基本结构 | 第11页 |
| ·真空灭弧室的基本工作原理 | 第11-12页 |
| ·本课题的研制背景 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 真空电弧理论控制技术 | 第14-24页 |
| ·真空灭弧室在真空中的电击穿理论 | 第14-16页 |
| ·真空电弧的特性 | 第16-19页 |
| ·扩散型真空电弧 | 第17-18页 |
| ·集聚型真空电弧 | 第18页 |
| ·真空电弧熄弧后的绝缘恢复特性 | 第18-19页 |
| ·真空电弧的控制技术 | 第19-24页 |
| ·纵向磁场触头 | 第20-21页 |
| ·横向磁场触头 | 第21-22页 |
| ·横向磁场对真空电弧的作用 | 第22-24页 |
| 第三章 杯状横向磁场触头的研究 | 第24-40页 |
| ·杯状横向磁场触头材料的选用 | 第24-26页 |
| ·杯状横向磁场触头的结构设计 | 第26-29页 |
| ·CAE 分析 | 第29-40页 |
| ·杯状横向磁场强度及分布 | 第29-34页 |
| ·模型的建立 | 第29-30页 |
| ·杯状横向磁场强度分析结果 | 第30-33页 |
| ·杯状横向磁场强度分析结果与讨论 | 第33-34页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升 CAE 及分析 | 第34-36页 |
| ·模型的建立 | 第34-35页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升测量及分析结果 | 第35-36页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升结果与讨论 | 第36页 |
| ·杯状横磁触头结构真空灭弧室电场强度 CAE 分析 | 第36-40页 |
| ·杯状横磁触头结构真空灭弧室电场强度的建模 | 第36-37页 |
| ·杯状横向磁场电场强度的分析结果 | 第37-39页 |
| ·杯状横向磁场电场强度的分析结果与讨论 | 第39-40页 |
| 第四章 杯状横向触头性能的实验与分析 | 第40-50页 |
| ·杯状横向磁场触头真空灭弧室的装配 | 第40-42页 |
| ·杯状横向磁场触头真空灭弧室的静态参数测试 | 第42页 |
| ·杯状横磁触头真空灭弧室的短路电流开断能力实验 | 第42-46页 |
| ·合成回路的构成原理 | 第42-44页 |
| ·本实验所采用的合成回路 | 第44页 |
| ·实验步骤 | 第44-46页 |
| ·实验结果与分析 | 第46-48页 |
| ·综合比较 | 第48-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 攻硕期间取得的成果 | 第55页 |