| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-12页 |
| 第二章 过渡金属硅化物导电薄膜和纳米线的研究现状 | 第12-27页 |
| ·过渡金属硅化物导电薄膜的研究现状 | 第12-20页 |
| ·过渡金属硅化物的性质 | 第12-14页 |
| ·过渡金属硅化物导电薄膜的用途 | 第14-16页 |
| ·过渡金属硅化物薄膜的制备技术 | 第16-20页 |
| ·过渡金属硅化物纳米线的研究进展 | 第20-25页 |
| ·过渡金属硅化物纳米线的制备方法 | 第21-24页 |
| ·过渡金属硅化物纳米线的性质 | 第24页 |
| ·过渡金属硅化物纳米线的应用前景 | 第24-25页 |
| ·研究目的和意义 | 第25-27页 |
| 第三章 实验与测试 | 第27-35页 |
| ·样品制备 | 第27-31页 |
| ·实验装置 | 第27-28页 |
| ·反应体系的选择 | 第28页 |
| ·样品制备过程 | 第28-31页 |
| ·分析和测试方法 | 第31-35页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第31页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第31-32页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM) | 第32-33页 |
| ·薄膜电阻(率)的测定 | 第33页 |
| ·紫外-可见光透射率测试 | 第33-34页 |
| ·红外反射率测试 | 第34-35页 |
| 第四章 APCVD硅化钛薄膜在玻璃基板上的形成及其光学性能研究 | 第35-53页 |
| ·APCVD法在玻璃基板上形成硅化钛薄膜的研究 | 第35-49页 |
| ·APCVD硅化钛薄膜的光学性能分析 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 APCVD硅化钛纳米线在玻璃基板上形成的研究 | 第53-70页 |
| ·APCVD法在玻璃上生长的纳米线 | 第53-56页 |
| ·方形纳米线形成的研究 | 第56-66页 |
| ·TiSi方形纳米线 | 第56-60页 |
| ·TiSi方形纳米线形成机理的研究 | 第60-66页 |
| ·硅化钛纳米针 | 第66-68页 |
| ·核(晶)-鞘(非晶)硅化钛纳米线 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 APCVD硅化钛薄膜及纳米线在单晶硅基板上形成的研究 | 第70-75页 |
| ·APCVD硅化钛薄膜在单晶硅基板上的形成 | 第70-72页 |
| ·APCVD硅化钛纳米线在单晶硅基板上的形成 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第七章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 硕士期间发表论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
