| 第1章 引言 | 第1-11页 |
| ·课题的研究背景及意义 | 第6-9页 |
| ·数字X 射线FPD 的研究背景及意义 | 第6-8页 |
| ·非晶硒合金膜的研究背景与意义 | 第8-9页 |
| ·论文结构安排 | 第9-11页 |
| 第2章 应用非晶硒于数字X 射线FPD 之理论研究 | 第11-25页 |
| ·数字X 射线FPD 概述 | 第11-13页 |
| ·间接型数字X 射线FPD 的结构与研究状况 | 第11-12页 |
| ·直接型数字X 射线FPD 的结构 | 第12-13页 |
| ·非晶硒的结构与性能研究以及实验意义 | 第13-25页 |
| ·非晶硒合金膜的物理结构特性 | 第14-16页 |
| ·非晶硒对X 射线的光电性能研究 | 第16-25页 |
| 第3章 真空热蒸镀制备技术理论研究 | 第25-38页 |
| ·真空技术基础 | 第25-27页 |
| ·物理气相沉积方法 | 第27-33页 |
| ·物质的蒸发速度 | 第27-28页 |
| ·薄膜沉积的方向性 | 第28-30页 |
| ·大面积薄膜的均匀性控制 | 第30-32页 |
| ·蒸发沉积薄膜的纯度 | 第32-33页 |
| ·真空镀膜装置 | 第33-38页 |
| ·真空泵 | 第33-34页 |
| ·真空测量仪器 | 第34-36页 |
| ·加热装置 | 第36-37页 |
| ·底板冷却系统 | 第37-38页 |
| 第4章 非晶硒合金膜的制备实验 | 第38-62页 |
| ·实验设计 | 第38-56页 |
| ·制备合金源与衬底 | 第38-40页 |
| ·蒸镀装置设计 | 第40-56页 |
| ·实验步骤 | 第56-59页 |
| ·衬底和仪器准备 | 第57页 |
| ·制备蒸镀源 | 第57-58页 |
| ·真空镀膜 | 第58-59页 |
| ·实验结果 | 第59-60页 |
| ·实验方法分析 | 第60-62页 |
| 第5章 非晶硒合金膜的测试研究 | 第62-68页 |
| ·合金膜的厚度分布测试 | 第62-63页 |
| ·非晶化程度测试 | 第63-65页 |
| ·电导率检测 | 第65-68页 |
| 第6章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第72页 |