| 1 前言 | 第1-19页 |
| ·荧光分析技术 | 第7-12页 |
| ·荧光产生的机理 | 第7-8页 |
| ·荧光与结构的关系 | 第8-11页 |
| ·共轭π键体系 | 第8-9页 |
| ·刚性平面结构 | 第9-10页 |
| ·最低单线激发态S1的性质 | 第10-11页 |
| ·取代基的影响 | 第11页 |
| ·环境因素对荧光强度的影响 | 第11-12页 |
| ·溶剂的影响 | 第11-12页 |
| ·温度的影响 | 第12页 |
| ·pH值的影响 | 第12页 |
| ·循环冷却水系统用聚合物阻垢分散剂 | 第12-16页 |
| ·聚合物阻垢剂分类简介 | 第12-14页 |
| ·天然高分子阻垢剂 | 第13页 |
| ·聚羧酸聚合物阻垢剂 | 第13页 |
| ·磺酸类聚合物阻垢剂 | 第13-14页 |
| ·含磷聚合物阻垢剂 | 第14页 |
| ·阻垢机理 | 第14-16页 |
| ·本课题研究内容目的与意义 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 2 荧光单体的制备 | 第19-35页 |
| ·实验部分 | 第19-24页 |
| ·实验仪器 | 第19-20页 |
| ·实验药品 | 第20页 |
| ·4-氯-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺的合成 | 第20-22页 |
| ·实验步骤 | 第20页 |
| ·反应机理探讨 | 第20-21页 |
| ·单因素实验 | 第21-22页 |
| ·4-甲氧基-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺的合成 | 第22-23页 |
| ·实验步骤 | 第22-23页 |
| ·实验反应原理的讨论 | 第23页 |
| ·4-甲氧基-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺烯丙基氯季铵盐的合成 | 第23-24页 |
| ·实验步骤 | 第23-24页 |
| ·实验因素，水平的确定 | 第24页 |
| ·结构表征 | 第24-33页 |
| ·4-氯-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺的结构表征 | 第24-28页 |
| ·红外光谱 | 第24-27页 |
| ·质谱图 | 第27页 |
| ·核磁谱图 | 第27-28页 |
| ·4-甲氧基-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺的结构表征 | 第28-30页 |
| ·质谱图 | 第29页 |
| ·核磁谱图 | 第29-30页 |
| ·4-甲氧基-N-(3-二甲氨基丙基)萘酰亚胺烯丙基氯的季铵盐的结构表征 | 第30-33页 |
| ·红外谱图 | 第30-31页 |
| ·质谱图 | 第31页 |
| ·核磁谱图 | 第31-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 3 AA/AM/4-MNDMAPN-AQ的合成 | 第35-43页 |
| ·荧光水处理药剂的合成概述 | 第35-38页 |
| ·(转)酰胺反应 | 第35-37页 |
| ·共聚反应 | 第37-38页 |
| ·合成工艺 | 第38-41页 |
| ·荧光单体和聚合物阻垢分散剂单体丙烯酸、丙烯酰胺的共聚反应 | 第38-39页 |
| ·实验因素，水平的确定 | 第39-40页 |
| ·原料配比 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 4 性能评定 | 第43-57页 |
| ·实验仪器和药品 | 第43页 |
| ·实验仪器 | 第43页 |
| ·实验药品 | 第43页 |
| ·荧光性能的测定 | 第43-51页 |
| ·单体的荧光性能 | 第43-46页 |
| ·单体的紫外吸收光谱 | 第43-44页 |
| ·波长的确定 | 第44页 |
| ·单体的荧光强度与浓度的关系 | 第44-46页 |
| ·聚合物荧光强度的测定 | 第46-51页 |
| ·聚合物的紫外吸收光谱 | 第46页 |
| ·聚合物AA/AM/4-MNDMAPN-AQ荧光规律的研究 | 第46-49页 |
| ·AA/AM/4-MNDMAPN-AQ与常规阻垢剂协同作用的研究 | 第49-51页 |
| ·阻垢性能的评定 | 第51-55页 |
| ·阻垢性能评定方法 | 第51-53页 |
| ·静态阻垢法 | 第51-52页 |
| ·鼓泡法 | 第52页 |
| ·pH位移法 | 第52页 |
| ·极限碳酸盐法 | 第52-53页 |
| ·AA/AM/4-MNDMAPN-AQ阻垢性能 | 第53-54页 |
| ·聚合物黏度对阻垢率的影响 | 第54-55页 |
| ·聚合物黏度的测定 | 第55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
