| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-10页 |
| ·前言 | 第8-9页 |
| ·研究内容 | 第9-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-35页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| ·激光熔覆技术的研究发展状况 | 第11-16页 |
| ·激光的特性 | 第16-17页 |
| ·激光表面改性的分类、特点及其在国内外的应用 | 第17-21页 |
| ·激光表面改性分类 | 第17-18页 |
| ·激光熔覆的特点 | 第18-20页 |
| ·激光熔覆的应用 | 第20-21页 |
| ·关于激光熔覆的原理、影响因素 | 第21-26页 |
| ·激光熔覆的原理 | 第21-22页 |
| ·激光熔覆层的影响因素 | 第22-26页 |
| ·激光熔覆层的开裂倾向 | 第26-30页 |
| ·金属陶瓷激光熔覆层的显微裂纹 | 第26页 |
| ·WC含量及激光工艺对金属陶瓷激光熔覆层开裂性的影响 | 第26-29页 |
| ·激光熔覆方式对开裂的影响 | 第29-30页 |
| ·激光熔覆层结晶方向对熔覆层裂纹方向和开裂敏感性的影响 | 第30页 |
| ·激光熔覆熔池的对流机制 | 第30-35页 |
| ·激光熔覆过程中的数学模型 | 第30-31页 |
| ·影响对流特征因素引起的成分不均匀 | 第31-34页 |
| ·激光熔覆工艺引起的成分不均匀 | 第34-35页 |
| 第三章 研究方案 | 第35-43页 |
| ·实验目的 | 第35-36页 |
| ·激光熔覆实验材料及工艺 | 第36-41页 |
| ·基体材料 | 第36页 |
| ·涂层材料的设计 | 第36-38页 |
| ·粘结剂 | 第38页 |
| ·涂层的制备 | 第38页 |
| ·试验设备 | 第38-39页 |
| ·激光熔覆工艺参数的设计 | 第39-41页 |
| ·研究技术路线 | 第41页 |
| ·实验结果的观察与测量 | 第41-43页 |
| 第四章 实验结果及分析 | 第43-60页 |
| ·熔覆工艺参数对气孔率的影响 | 第43-46页 |
| ·熔覆工艺参数对熔覆层的显微组织的影响 | 第46-50页 |
| ·熔覆层不同部位的显微组织 | 第46-49页 |
| ·熔覆层不同熔覆工艺下相同部位的显微组织 | 第49-50页 |
| ·熔覆工艺参数对熔覆层显微硬度的影响 | 第50-53页 |
| ·激光熔覆与等离子喷涂的硬度比较 | 第50-51页 |
| ·能量密度对熔覆层显微硬度的影响 | 第51-52页 |
| ·涂层厚度对熔覆层显微硬度的影响 | 第52页 |
| ·涂层成分对熔覆层显微硬度的影响 | 第52-53页 |
| ·熔覆工艺参数对熔覆层深度的影响 | 第53-55页 |
| ·激光工艺参数对熔覆层深度的影响 | 第53页 |
| ·涂层厚度对熔覆层深度的影响 | 第53-54页 |
| ·涂层成分对熔覆层深度的影响 | 第54-55页 |
| ·熔覆工艺参数对熔化区深度的影响 | 第55-56页 |
| ·熔覆工艺参数对熔覆层成分的影响 | 第56-60页 |
| ·熔池的对流作用 | 第56-57页 |
| ·熔覆层合金元素分布规律 | 第57-60页 |
| 第五章 正交试验分析 | 第60-63页 |
| ·熔覆层深度的正交分析 | 第60-61页 |
| ·熔覆层硬度的正交分析 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |