中文摘要 | 第1-4页 |
Absttract | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
1.1 复合电镀 | 第9-12页 |
1.1.1 复合电镀的起源与发展 | 第9-10页 |
1.1.2 复合电镀层的分类与应用 | 第10-11页 |
1.1.3 复合电沉积机理 | 第11-12页 |
1.2 纳米材料 | 第12-14页 |
1.2.1 引言 | 第12页 |
1.2.2 纳米材料的特性 | 第12-13页 |
1.2.3 纳米颗粒在镀层制备过程中的共沉积机理 | 第13-14页 |
1.3 摩擦复合镀层 | 第14-16页 |
1.3.1 引言 | 第14页 |
1.3.2 国内外研究现状 | 第14-16页 |
1.4 本论文的研究目的与内容 | 第16-18页 |
第二章 摩擦复合镀层的制备 | 第18-23页 |
2.1 试验设备 | 第18-19页 |
2.1.1 试验用品 | 第18页 |
2.1.2 试验前处理 | 第18-19页 |
2.2 Ni-P-Si_3N_4(nm)复合镀层的制备 | 第19页 |
2.3 Ni-PTFE 复合镀层的制备 | 第19-20页 |
2.3.1 预镀 | 第19-20页 |
2.3.2 电沉积 | 第20页 |
2.4 Ni-PTFE-Si_3N_4(nm)复合镀层的制备 | 第20页 |
2.5 镀层的厚度与热处理 | 第20-21页 |
2.5.1 镀层厚度与沉积速率 | 第20页 |
2.5.2 热处理实验 | 第20-21页 |
2.6 测试方法 | 第21-23页 |
2.6.1 显微硬度 | 第21页 |
2.6.2 组织与结构分析 | 第21页 |
2.6.3 高温氧化性能 | 第21页 |
2.6.4 摩擦磨损性能 | 第21页 |
2.6.5 耐蚀性评定 | 第21-23页 |
第三章 Ni-P-Si_3N_4(nm)复合镀层的组织与性能 | 第23-35页 |
3.1 引言 | 第23页 |
3.2 复合电镀工艺的确定 | 第23-29页 |
3.2.1 颗粒质量浓度 | 第24页 |
3.2.2 阴极电流密度 | 第24-26页 |
3.2.3 pH 值 | 第26页 |
3.2.4 温度 | 第26-27页 |
3.2.5 电镀时间 | 第27-29页 |
3.2.6 溶液搅拌 | 第29页 |
3.2.7 最佳电镀工艺 | 第29页 |
3.3 成分与组织结构 | 第29-32页 |
3.3.1 Ni-P表面形貌 | 第29-30页 |
3.3.2 Ni-P-Si_3N_4(nm)复合镀层 | 第30-32页 |
3.4 耐磨性 | 第32页 |
3.5 硬度 | 第32-33页 |
3.6 高温氧化性能 | 第33-34页 |
3.7 耐蚀性 | 第34页 |
3.8 小结 | 第34-35页 |
第四章 Ni-PTFE-Si_3N_4(nm)复合镀层的组织与性能 | 第35-49页 |
4.1 引言 | 第35页 |
4.2 Ni-PTFE 复合镀层 | 第35-41页 |
4.2.1 预镀条件对镀层的影响 | 第35-36页 |
4.2.2 沉积条件优化 | 第36-40页 |
4.2.3 形貌与结构 | 第40-41页 |
4.2.4 耐磨性 | 第41页 |
4.3 Ni-PTFE-Si_3N_4(nm)复合镀层 | 第41-48页 |
4.3.1 实验方法 | 第41页 |
4.3.2 工艺参数的分析 | 第41-42页 |
4.3.3 形貌与组织结构 | 第42-43页 |
4.3.4 硬度 | 第43-44页 |
4.3.5 耐磨性 | 第44-47页 |
4.3.6 耐蚀性 | 第47-48页 |
4.4 小结 | 第48-49页 |
第五章 结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-54页 |
硕士期间发表的论文 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |