碳钢表面双辉渗镀TiC及Ti(CN)膜的工艺和性能研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-14页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
·表面技术与工程概述 | 第14-15页 |
·金属材料表面陶瓷化 | 第15-16页 |
·TIN 类陶瓷膜简介 | 第16-17页 |
·TIN 类陶瓷膜的制备方法及其局限性 | 第17-19页 |
·化学气相沉积法 | 第17-18页 |
·物理气相沉积法 | 第18页 |
·自蔓延燃烧合成法 | 第18页 |
·固体粉末渗覆法 | 第18-19页 |
·激光熔覆法 | 第19页 |
·电泳沉积法 | 第19页 |
·双层辉光渗金属技术 | 第19-23页 |
·双辉技术原理 | 第20-21页 |
·双辉技术特点 | 第21-22页 |
·双辉技术的研究进展与应用 | 第22-23页 |
·本课题的研究内容 | 第23-26页 |
·课题的提出 | 第23-24页 |
·双辉渗镀TiN 类陶瓷膜的机理 | 第24-25页 |
·本课题的主要研究内容 | 第25-26页 |
第二章 双辉渗镀TIC 及TI(CN)的工艺研究 | 第26-33页 |
·试验设备与试验材料 | 第26-27页 |
·试验设备 | 第26页 |
·试验材料 | 第26-27页 |
·试验方案及工艺路线 | 第27-29页 |
·试验方案设计 | 第27-28页 |
·源极结构的设计 | 第28页 |
·试验步骤 | 第28-29页 |
·渗镀工艺参数的优化 | 第29-32页 |
·渗镀TiC 陶瓷膜工艺参数的优化 | 第29-31页 |
·渗镀Ti(CN)陶瓷膜工艺参数的优化 | 第31-32页 |
·工艺优化小结 | 第32-33页 |
第三章 渗镀层的结合力与微观分析 | 第33-47页 |
·分析检测仪器 | 第33页 |
·TI、C 二元共渗的分析 | 第33-38页 |
·渗镀层的微观形貌 | 第33-35页 |
·渗镀层的能谱分析 | 第35页 |
·渗镀层的XRD 物相检测 | 第35-37页 |
·渗镀层与基体的结合力 | 第37-38页 |
·TI、C、N 三元共渗的分析 | 第38-46页 |
·渗镀层的微观形貌 | 第38-40页 |
·渗镀层的能谱分析 | 第40-41页 |
·渗镀层的XRD 物相检测 | 第41-43页 |
·渗镀层与基体的结合力 | 第43-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第四章 渗镀层的摩擦磨损性能 | 第47-58页 |
·材料的摩擦磨损[97-100] | 第47-51页 |
·摩擦 | 第47-48页 |
·磨损 | 第48-49页 |
·耐磨性表征与磨损试验 | 第49-51页 |
·试验方法 | 第51-52页 |
·试验材料 | 第51页 |
·试验设备 | 第51-52页 |
·试验参数设置 | 第52页 |
·试验结果与分析 | 第52-57页 |
·摩擦系数 | 第52-54页 |
·耐磨性 | 第54-56页 |
·磨损形貌 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第五章 渗镀层的耐腐蚀性能 | 第58-67页 |
·电化学测试原理及腐蚀性能评价 | 第58-61页 |
·电化学测试原理 | 第58-59页 |
·极化曲线及其测定 | 第59-60页 |
·腐蚀性能表征 | 第60-61页 |
·试验方法 | 第61-62页 |
·腐蚀液的选择 | 第61页 |
·试验材料及其制备 | 第61页 |
·试验设备及参数 | 第61-62页 |
·试验结果与分析 | 第62-66页 |
·3.5% NaCl 水溶液中的电化学腐蚀 | 第62-64页 |
·5% H_2SO_4 水溶液中的电化学腐蚀 | 第64-66页 |
·腐蚀形貌 | 第66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第六章 C、N、TI 渗入顺序对渗镀层的影响 | 第67-76页 |
·试验方法 | 第67-68页 |
·渗镀层的微观分析 | 第68-73页 |
·渗镀层的微观组织结构 | 第68-70页 |
·渗镀层的成份 | 第70-71页 |
·渗镀层的物相分析 | 第71-73页 |
·渗镀层的性能表征 | 第73-75页 |
·渗镀层与基体的结合力 | 第73-74页 |
·渗镀层的表面硬度 | 第74-75页 |
·渗镀层的耐磨性 | 第75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第七章 结论 | 第76-78页 |
·结论 | 第76-77页 |
·建议与展望 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
硕士研究生期间的研究成果及发表的学术论文 | 第85页 |