摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-13页 |
第一章 绪论 | 第13-24页 |
·智能材料 | 第13-16页 |
·薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
·化学气相沉积方法 | 第16-17页 |
·常压化学气相沉积法(APCVD) | 第16页 |
·低压化学气相沉积法(LPCVD) | 第16-17页 |
·等离子体增强化学气相沉积法(PECVD) | 第17页 |
·物理气相沉积方法 | 第17-18页 |
·真空蒸发镀膜 | 第17页 |
·分子束外延 | 第17-18页 |
·溅射法 | 第18页 |
·NiTi 薄膜与 ZnO 薄膜的性质及研究进展 | 第18-21页 |
·NiTi 薄膜的性质及研究进展 | 第18-20页 |
·ZnO 薄膜的性质及研究进展 | 第20-21页 |
·本研究的目的与意义 | 第21-22页 |
·本研究的主要内容与技术路线 | 第22-24页 |
·本研究的主要内容 | 第22页 |
·本试验的技术路线 | 第22-24页 |
第二章 试验原理与方法 | 第24-34页 |
·试验原理与设备 | 第24-29页 |
·磁控溅射原理 | 第24-25页 |
·纳米压痕原理 | 第25-28页 |
·试验设备 | 第28-29页 |
·试验原料 | 第29-30页 |
·溅射靶材 | 第29-30页 |
·沉积基片 | 第30页 |
·溅射镀膜流程 | 第30-31页 |
·薄膜的退火热处理 | 第31页 |
·薄膜组织及相结构分析 | 第31-32页 |
·X 射线衍射分析 | 第31页 |
·扫描电镜分析 | 第31-32页 |
·电子能谱分析 | 第32页 |
·薄膜厚度的测量 | 第32页 |
·薄膜力学性能分析 | 第32-33页 |
·纳米压痕试验 | 第32页 |
·划痕试验 | 第32-33页 |
·薄膜阻尼性能分析 | 第33-34页 |
第三章 射频磁控溅射制备 NiTi 薄膜的工艺与力学性能研究 | 第34-61页 |
·靶材的原始结构及成分分析 | 第34-35页 |
·衬底温度对 NiTi 薄膜组织结构及力学性能的影响 | 第35-43页 |
·衬底温度对NiTi 薄膜晶化行为的影响 | 第35-40页 |
·衬底温度对NiTi 薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
·衬底温度对NiTi 薄膜力学性能的影响 | 第41-43页 |
·溅射功率对 NiTi 薄膜组织结构及力学性能的影响 | 第43-50页 |
·溅射功率对NiTi 薄膜晶化行为的影响 | 第43-46页 |
·溅射功率对NiTi 薄膜表面形貌的影响 | 第46-48页 |
·溅射功率对NiTi 薄膜力学性能的影响 | 第48-50页 |
·溅射气压对 NiTi 薄膜组织结构及力学性能的影响 | 第50-57页 |
·溅射气压对NiTi 薄膜晶化行为的影响 | 第50-53页 |
·溅射气压对NiTi 薄膜表面形貌的影响 | 第53-55页 |
·溅射气压对NiTi 薄膜力学性能的影响 | 第55-57页 |
·NiTi 薄膜沉积工艺的确定 | 第57页 |
·气氛退火对 NiTi 薄膜结晶行为与纳米硬度的影响 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第四章 NiTi/ZnO 复合智能薄膜的制备及阻尼性能研究 | 第61-74页 |
·NiTi/ZnO 复合薄膜的设计与制备 | 第61-63页 |
·NiTi/ZnO 复合薄膜的设计 | 第61-62页 |
·NiTi/ZnO 复合薄膜的制备 | 第62-63页 |
·NiTi/ZnO 复合薄膜的微观组织结构 | 第63-68页 |
·Quartz/ZnO/NiTi 复合结构的阻尼性能研究 | 第68-73页 |
·不同频率下Quartz/NiTi 复合结构的阻尼性能 | 第68-69页 |
·不同频率下Quartz/ZnO/NiTi 复合结构的阻尼性能 | 第69页 |
·不同振幅下Quartz/NiTi 复合结构的阻尼性能 | 第69-70页 |
·不同振幅下Quartz/ ZnO/NiTi 复合结构的阻尼性能 | 第70-71页 |
·Quartz/ZnO/NiTi 复合结构的阻尼特性机理分析 | 第71-72页 |
·Quartz/ZnO/NiTi 复合结构的结合力研究 | 第72-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
第五章 结论 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
学习期间发表的学术论文 | 第82页 |