摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
·化学修饰电极的研究 | 第10-14页 |
·电极的修饰 | 第11-12页 |
·电极表面预处理 | 第12页 |
·化学修饰电极的表征方法 | 第12-14页 |
·电化学分析法在铬的形态分析中应用 | 第14-19页 |
·极谱法 | 第15页 |
·伏安法 | 第15-17页 |
·电位分析法 | 第17-18页 |
·库仑法 | 第18页 |
·其他电化学分析方法 | 第18-19页 |
·选择性微电极技术测定离子流的意义及应用 | 第19-22页 |
·选择性微电极的工作原理 | 第19-20页 |
·在植物逆境生理研究中的应用 | 第20-21页 |
·选择性微电极技术的优点与局限 | 第21-22页 |
·本论文立题思想及主要工作内容 | 第22-24页 |
第二章 DTPA 修饰固体汞合金电极测定铬(VI)和无机态铬(III) | 第24-35页 |
·引言 | 第24页 |
·实验部分 | 第24-28页 |
·主要仪器及试剂 | 第24-25页 |
·实验方法 | 第25-26页 |
·DTPA 与Cr(III)的络合 | 第26-28页 |
·结果与讨论 | 第28-34页 |
·Cr(VI)和无机态Cr(III)在修饰电极的伏安特性 | 第28-30页 |
·缓冲液及其pH 的影响 | 第30页 |
·氧化剂NO_3~-用量对峰电流的影响 | 第30-31页 |
·扫前富集时间与提取时间的影响 | 第31-32页 |
·线性范围与检出限 | 第32-33页 |
·扫描速度的影响 | 第33页 |
·电极的更新与重现性 | 第33页 |
·干扰实验 | 第33-34页 |
·样品分析 | 第34页 |
·结论 | 第34-35页 |
第三章 一种新的DTPA 修饰铬(III)离子选择电极的研制及应用 | 第35-44页 |
·引言 | 第35-36页 |
·实验部分 | 第36-37页 |
·实验试剂与仪器 | 第36页 |
·实验步骤 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-43页 |
·聚碱性品红的电化学行为 | 第37-38页 |
·DTPA-Cr~(3+)络合物的物理性质 | 第38-39页 |
·pH 值的影响 | 第39-40页 |
·电极的动态响应 | 第40-41页 |
·电极的工作曲线 | 第41页 |
·干扰离子的影响 | 第41-42页 |
·电极的稳定性、重现性和寿命 | 第42-43页 |
·样品分析 | 第43页 |
·结论 | 第43-44页 |
第四章 铬(III)离子选择性微电极实时监测李氏禾根尖离子流 | 第44-54页 |
·引言 | 第44-45页 |
·实验部分 | 第45-48页 |
·仪器与试剂 | 第45页 |
·全固型Cr~(3+)选择性微电极制作 | 第45-46页 |
·Ag/AgCl 微参比电极的制备 | 第46-47页 |
·植物材料 | 第47页 |
·实验方法 | 第47-48页 |
·结果与讨论 | 第48-53页 |
·微电极对铬(III)离子的响应 | 第48-49页 |
·响应时间 | 第49页 |
·李氏禾根尖表面不同部位Cr (III)的监测 | 第49-51页 |
·李氏禾根尖表面的Cr(III)电极的响应与时间和垂直距离的关系 | 第51-52页 |
·李氏禾根尖昼夜Cr (III)离子流的监测 | 第52-53页 |
·小结 | 第53-54页 |
第五章 氧化铱修饰微电极测定铬逆境李氏禾根尖的H~+离子流 | 第54-64页 |
·引言 | 第54-55页 |
·实验部分 | 第55-56页 |
·仪器与试剂 | 第55页 |
·全固型pH 微电极制作 | 第55页 |
·植物材料 | 第55-56页 |
·实验方法 | 第56页 |
·结果和讨论 | 第56-63页 |
·全固型pH 微电极的直径 | 第56-57页 |
·全固型 pH 微电极的响应 | 第57-58页 |
·李氏禾根尖表面不同部位的pH 响应 | 第58-59页 |
·六价铬逆境中李氏禾根尖的pH响应 | 第59-61页 |
·三价铬逆境中李氏禾根尖的pH响应 | 第61-62页 |
·铬逆境中李氏禾根尖的pH 响应与时间的关系 | 第62-63页 |
·小结 | 第63-64页 |
第六章 结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
个人简历 | 第81页 |
申请学位期间的参与科研项目及获奖情况 | 第81-82页 |
研究成果及发表论文情况 | 第82页 |