摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 引言 | 第11-17页 |
·材料简介 | 第11页 |
·纳米材料的组装技术 | 第11页 |
·纳米材料的分类 | 第11页 |
·纳米材料的性质 | 第11页 |
·纳米材料的用途 | 第11-12页 |
·光电上的应用 | 第11-12页 |
·电子学上的应用 | 第12页 |
·化工上的应用 | 第12页 |
·磁学上的应用 | 第12页 |
·内米材料的研究方向 | 第12-13页 |
·无序到有序 | 第12页 |
·简单到复杂 | 第12-13页 |
·选用模板法制备一维纳米材料 | 第13-15页 |
·模板的选用 | 第13-14页 |
·选用模板法组装时应注意的事项 | 第14页 |
·模板的组装 | 第14-15页 |
·选题背景 | 第15-16页 |
·课题内容与论文结构 | 第16-17页 |
2 样品的表征 | 第17-23页 |
·磁滞回线 | 第17-18页 |
·饱和磁化强度 | 第17页 |
·剩余磁化强度 | 第17页 |
·矫顽力 | 第17-18页 |
·方形度 | 第18页 |
·磁各向异性 | 第18页 |
·测试设备 | 第18-23页 |
·振动样品磁强计(VSM) | 第18-19页 |
·X射线衍射仪(XRD) | 第19-20页 |
·扫描探针显微镜(SPM) | 第20-21页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第22-23页 |
3 AAO模板的制备 | 第23-43页 |
·制备设备介绍 | 第23-24页 |
·AAO模板的研究现状与问题分析 | 第24页 |
·氧化铝的形成机制与AAO模板简介 | 第24-25页 |
·AAO模板纳米孔生长条件控制 | 第25-30页 |
·电解液与孔径关系 | 第26-27页 |
·阳极氧化温度对孔径的影响 | 第27页 |
·电解液PH值对孔径的影响 | 第27页 |
·孔径与电解电压的关系 | 第27-28页 |
·孔间距与电解电压的关系 | 第28-29页 |
·扩孔过程对孔径的影响 | 第29-30页 |
·AAO模板纳米孔阵列有序度的控制 | 第30-32页 |
·铝的纯度与AAO模板有序性的关系 | 第30页 |
·金属铝的预处理与AAO模板有序性的关系 | 第30-32页 |
·氧化时间对AAO模板有序度的影响 | 第32页 |
·氧化电压对AAO模板有序度的影响 | 第32页 |
·影响模板厚度的因素 | 第32-33页 |
·氧化时间对模板厚度的影响 | 第32页 |
·氧化电压对模板厚度的影响 | 第32-33页 |
·氧化温度对模板厚度的影响 | 第33页 |
·制备AAO模板 | 第33-37页 |
·铝材的预处理过程 | 第33-34页 |
·第一次氧化 | 第34-35页 |
·第二次氧化 | 第35-36页 |
·模板的后期处理 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-42页 |
·AAO模板形成过程的机理分析 | 第37-38页 |
·用SEM分析AAO模板的形貌和结构 | 第38-39页 |
·用SPM分析AAO模板的形貌和结构 | 第39-41页 |
·AAO模板的相结构分析 | 第41-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
4 电化学沉积复合纳米线结构和磁性研究 | 第43-58页 |
·复合镍锌纳米线的制备 | 第43-44页 |
·制备设备 | 第43页 |
·电沉积镍锌纳米线 | 第43-44页 |
·单一电位下沉积纳米线的讨论 | 第44-48页 |
·沉积纳米线时,沉积电流随时间的变化关系 | 第45-46页 |
·纳米线阵列的形貌表征及分析 | 第46页 |
·纳米线阵列的X射线衍射图谱及结构分析 | 第46-48页 |
·Ni/Zn纳米线阵列的磁滞回线及磁性分析 | 第48页 |
·沉积电位对纳米线的影响 | 第48-57页 |
·纳米线阵列的形貌表征及分析 | 第49页 |
·纳米线阵列的X射线衍射图谱及结构分析 | 第49-51页 |
·Ni/Zn纳米线阵列的磁滞回线及磁性分析 | 第51-54页 |
·Ni/Zn纳米线阵列的矫顽力与沉积电压的关系 | 第54-56页 |
·Ni/Zn纳米线阵列的饱和磁化强度与沉积电压的关系 | 第56页 |
·Ni/Zn纳米线阵列方形度与沉积电压的关系 | 第56-57页 |
·小结 | 第57-58页 |
5 结论 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
攻读学位期间科研成果 | 第70页 |