| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·摩擦和磨损与润滑 | 第11-19页 |
| ·摩擦学的研究与发展 | 第11-12页 |
| ·摩擦及摩擦理论 | 第12-14页 |
| ·磨损及磨损原理 | 第14-15页 |
| ·固体润滑 | 第15-19页 |
| ·纳米薄膜 | 第19-26页 |
| ·纳米材料和纳米复合薄膜概述 | 第19-21页 |
| ·纳米复合薄膜的制备 | 第21-26页 |
| ·MoS_2及WS_2的概述 | 第26-28页 |
| ·MoS_2及WS_2的性质及结构 | 第26-28页 |
| ·MoS_2及WS_2溅射固体润滑膜研究进展 | 第28页 |
| ·本课题的立题依据及研究意义 | 第28-30页 |
| 第二章 MoS_2/WS_2纳米复合薄膜的制备 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·溅射制备方法 | 第30-36页 |
| ·射频磁控溅射基本原理 | 第30-33页 |
| ·溅射的基本特征 | 第33-34页 |
| ·射频磁控溅射实验装置 | 第34-36页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第36-41页 |
| ·靶材的制备 | 第36-37页 |
| ·基体镀前处理 | 第37-38页 |
| ·共溅射制备MoS_2/WS_2纳米复合薄膜 | 第38-40页 |
| ·复合靶制备MoS_2/WS_2纳米复合薄膜 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 共溅射制备MoS_2/WS_2纳米复合薄膜的表征、测试及性能分析 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·共溅射MoS_2/WS_2纳米复合薄膜的表征及分析 | 第42-48页 |
| ·共溅射薄膜形貌表征 | 第42-43页 |
| ·薄膜结构的X射线衍射表征 | 第43-44页 |
| ·薄膜化学成分分析 | 第44页 |
| ·薄膜-基底界面结合强度测试 | 第44-46页 |
| ·薄膜的力学性能测试 | 第46-48页 |
| ·MoS_2/WS_2的摩擦性能 | 第48-52页 |
| ·不同试验载荷对MoS_2/WS_2薄膜摩擦系数的影响 | 第49-50页 |
| ·不同工作气压对MoS_2/WS_2薄膜摩擦系数的影响 | 第50页 |
| ·MoS_2/WS_2纳米复合薄膜与纯MoS_2薄膜摩擦学性能比较 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 复合靶制备MoS_2/WS_2纳米复合薄膜的表征及性能分析 | 第53-66页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·薄膜表征及成分分析 | 第53-56页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第53-54页 |
| ·薄膜的XRD表征 | 第54-55页 |
| ·薄膜的EDS成分分析 | 第55-56页 |
| ·不同的溅射压力对薄膜的影响 | 第56-59页 |
| ·不同的溅射压力对薄膜微观结构的影响 | 第56-58页 |
| ·不同的溅射气压对薄膜-基底界面结合强度影响 | 第58页 |
| ·不同的溅射压力对摩擦系数的影响 | 第58-59页 |
| ·不同的溅射功率对薄膜性能的影响 | 第59-62页 |
| ·不同的溅射功率对薄膜微观结构的影响 | 第59-60页 |
| ·不同的溅射功率对薄膜-基底界面结合强度性能的影响 | 第60-61页 |
| ·不同的溅射功率对力学性能的影响 | 第61页 |
| ·不同的溅射功率对摩擦系数的影响 | 第61-62页 |
| ·MOS_2/WS_2复合薄膜与纯MoS_2薄膜的摩擦学性能比较 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72页 |
