液晶移相器理论研究与应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·研究背景 | 第9-12页 |
| ·传统的液晶光栅 | 第10-11页 |
| ·聚合物/液晶光栅 | 第11-12页 |
| ·PNLC 结构液晶光栅 | 第12页 |
| ·液晶光栅的制作方法 | 第12-14页 |
| ·光掩模法制备液晶光栅 | 第12页 |
| ·全息法制备液晶光栅 | 第12-14页 |
| ·课题来源 | 第14-15页 |
| ·作者的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 光栅原理及性能分析 | 第17-30页 |
| ·平面光栅原理及性能 | 第17-20页 |
| ·闪耀光栅 | 第20-21页 |
| ·二元光栅 | 第21-24页 |
| ·液晶移相器 | 第24-30页 |
| 第三章 液晶移相器基础理论和性能分析 | 第30-36页 |
| ·液晶移相器的结构 | 第30-31页 |
| ·液晶移相器性能分析 | 第31-36页 |
| 第四章 液晶移相器实施方案 | 第36-41页 |
| ·液晶移相器电极结构 | 第37-38页 |
| ·驱动芯片结构 | 第38-40页 |
| ·输出电极及软带线结构 | 第40-41页 |
| 第五章 液晶移相器单侧阵列制作工艺 | 第41-59页 |
| ·液晶移相器的光刻掩模的设计及制作 | 第41-44页 |
| ·ITO 玻璃基板上导电金属蒸镀 | 第44-47页 |
| ·液晶移相器单侧金属膜层刻蚀 | 第47-48页 |
| ·液晶移相器单侧ITO 层的刻蚀 | 第48-49页 |
| ·液晶移相器光栅区域铬金属刻蚀 | 第49-50页 |
| ·液晶移相器光栅区域SIO斜蒸取向 | 第50-53页 |
| ·液晶移相器背玻片制作 | 第53-55页 |
| ·液晶移相器光栅区域封盒 | 第55-56页 |
| ·液晶移相器光栅部分灌晶 | 第56-57页 |
| ·液晶移相器驱动芯片、软带线的绑定 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 液晶移相器单侧阵列性能测试 | 第59-76页 |
| ·测试平台搭建 | 第59-61页 |
| ·测试仪器 | 第60页 |
| ·测试原理 | 第60-61页 |
| ·测试目的 | 第61页 |
| ·测试步骤及结果 | 第61-75页 |
| ·类似矩形光栅相位面的测试 | 第61-64页 |
| ·激光偏转测试 | 第64-75页 |
| ·测试总结 | 第75-76页 |
| 第七章 液晶移相器双侧阵列的制作工艺 | 第76-83页 |
| ·液晶移相器双侧阵列结构 | 第76-78页 |
| ·制作双层电极存在的问题 | 第76-77页 |
| ·双层电极单层化 | 第77-78页 |
| ·液晶移相器双侧阵列掩膜制作 | 第78-79页 |
| ·Ag 金属的蒸镀 | 第79页 |
| ·液晶移相器双侧阵列刻蚀工艺 | 第79-81页 |
| ·离子束刻蚀去胶 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第八章 总结与展望 | 第83-85页 |
| ·现有工作总结 | 第83页 |
| ·对未来工作的展望 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简历 | 第89页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第89-90页 |
