冰盘化学机械抛光单晶砷化镓片的机理及工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·硬脆材料塑性域加工的研究进展 | 第13-15页 |
| ·超精密抛光技术的研究进展 | 第15-18页 |
| ·化学机械抛光(CMP)技术 | 第17-18页 |
| ·低温冰盘抛光技术 | 第18页 |
| ·研究基础与主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·研究基础 | 第18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 单晶砷化镓棒的切割加工 | 第21-28页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·电镀金刚石线锯 | 第21-22页 |
| ·实验设备及方法 | 第22-23页 |
| ·切割后的表面质量 | 第23-27页 |
| ·表面粗糙度 | 第23-25页 |
| ·表面形貌 | 第25-26页 |
| ·塑性加工的临界深度 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 单晶砷化镓片的预加工 | 第28-34页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·研磨加工 | 第28-29页 |
| ·化学机械抛光 | 第29-30页 |
| ·抛光机理 | 第29-30页 |
| ·抛光工艺 | 第30页 |
| ·预加工后的表面质量 | 第30-33页 |
| ·表面粗糙度 | 第30-33页 |
| ·表面形貌 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 不同温度下单晶砷化镓片的脆塑转变机理 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·低温压痕实验 | 第34-35页 |
| ·实验装置 | 第34-35页 |
| ·半导体制冷原理 | 第35页 |
| ·脆塑转变机理 | 第35-40页 |
| ·压痕及裂纹的产生与扩展 | 第36-37页 |
| ·温度对显微硬度的影响 | 第37-38页 |
| ·温度对裂纹长度的影响 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 纳米氧化硅磨料冰盘与夹具的制备 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·抛光冰盘的制备 | 第41-45页 |
| ·抛光冰盘模具 | 第41-42页 |
| ·抛光液的配比 | 第42-43页 |
| ·抛光冰盘的冷冻 | 第43-45页 |
| ·抛光夹具的制备 | 第45-46页 |
| ·实验设备 | 第45页 |
| ·工件夹具 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 冰盘化学机械抛光单晶砷化镓片工艺研究 | 第47-55页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验条件及方法 | 第47-50页 |
| ·粘片 | 第47-48页 |
| ·冰盘抛光 | 第48-50页 |
| ·超声波清洗 | 第50页 |
| ·冰盘抛光后的表面质量 | 第50-53页 |
| ·表面粗糙度 | 第50-52页 |
| ·表面形貌 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第七章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第60页 |
