| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·LB 膜技术 | 第10页 |
| ·LB 膜发展背景及应用 | 第10-14页 |
| ·LB 膜发展背景 | 第10-12页 |
| ·LB 膜的应用 | 第12-14页 |
| ·Langmuir 单层及LB 膜的研究方法 | 第14-17页 |
| ·Langmuir 单层的研究方法 | 第14-15页 |
| ·LB 膜的表征 | 第15-17页 |
| ·高分子LB 膜 | 第17-21页 |
| ·均聚物LB 膜 | 第17页 |
| ·嵌段共聚物LB 膜 | 第17-19页 |
| ·共混物LB 膜 | 第19-21页 |
| ·论文的研究目的和意义 | 第21-22页 |
| 第2章 实验部分 | 第22-26页 |
| ·实验材料及设备 | 第22-23页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·Langmuir 单层实验 | 第23-24页 |
| ·溶液配制 | 第23-24页 |
| ·π-A 等温实验 | 第24页 |
| ·滞后实验 | 第24页 |
| ·LB 膜制备和表征 | 第24-25页 |
| ·沉积实验 | 第24-25页 |
| ·LB 膜表征 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 PS/SMMA 的Langmuir 单层和LB 膜研究 | 第26-38页 |
| ·PS/SMMA34K 的Langmuir 单层和LB 膜研究 | 第26-30页 |
| ·PS/SMMA34K 的Langmuir 单层研究 | 第27-29页 |
| ·PS/SMMA34K 的原子力图 | 第29-30页 |
| ·PS/SMMA51K 的Langmuir 单层和LB 膜研究 | 第30-33页 |
| ·PS/SMMA51K 的Langmuir 单层研究 | 第30-32页 |
| ·PS/SMMA51K 的原子力图 | 第32-33页 |
| ·PS/SMMA65K 的Langmuir 单层和LB 膜研究 | 第33-37页 |
| ·PS/SMMA65K 的Langmuir 单层研究 | 第33-35页 |
| ·PS/SMMA65K 的原子力图 | 第35-37页 |
| ·PS/SMMA 与PS/SVP 聚集形态的比较 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 PS/SMMA 共混体系聚集机理的研究 | 第38-49页 |
| ·共聚物组成对聚集行为的影响 | 第38-40页 |
| ·纯组分的π-A 等温线分析 | 第38-39页 |
| ·原子力图分析 | 第39-40页 |
| ·共混物组成与嵌段分子量协同作用的影响 | 第40-47页 |
| ·不同PS 含量下的π-A 等温线 | 第40-41页 |
| ·PS 与PS-80%/SMMA 共混物π-A 等温线分析 | 第41-42页 |
| ·不同PS 含量下的滞后曲线 | 第42-45页 |
| ·不同PS 含量下的原子力图 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
