中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 概述 | 第9-11页 |
1.1.1 磁性纳米材料 | 第9页 |
1.1.2 金属有机骨架材料 | 第9-10页 |
1.1.3 磁性金属有机骨架材料 | 第10-11页 |
1.2 磁性金属有机骨架材料的合成 | 第11-15页 |
1.2.1 混合法 | 第11-12页 |
1.2.2 镶嵌法 | 第12页 |
1.2.3 一次生长法 | 第12-14页 |
1.2.4 层层组装法 | 第14-15页 |
1.3 磁性金属有机骨架材料的应用 | 第15-18页 |
1.3.1 生物医学方面应用 | 第15-16页 |
1.3.2 分析领域应用 | 第16页 |
1.3.3 催化领域应用 | 第16-17页 |
1.3.4 光催化领域应用 | 第17-18页 |
1.4 光催化技术概述 | 第18-21页 |
1.4.1 光催化技术原理 | 第18-19页 |
1.4.2 复合光催化材料 | 第19-21页 |
1.5 研究目的及研究内容 | 第21-23页 |
1.5.1 研究目的 | 第21页 |
1.5.2 研究内容 | 第21-22页 |
1.5.3 创新点 | 第22-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-30页 |
2.1 实验材料及仪器 | 第23-24页 |
2.1.1 实验试剂 | 第23-24页 |
2.1.2 主要的实验仪器 | 第24页 |
2.2 实验方法 | 第24-30页 |
2.2.1 磁性复合光催化剂的制备 | 第24-25页 |
2.2.2 表征测试方法 | 第25-27页 |
2.2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第25-26页 |
2.2.2.2 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第26页 |
2.2.2.3 紫外可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DRS) | 第26页 |
2.2.2.4 光致荧光光谱(PL) | 第26页 |
2.2.2.5 透射电子显微镜(TEM) | 第26页 |
2.2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
2.2.2.7 低温氮气吸附分析(BET) | 第27页 |
2.2.2.8 磁滞回线 | 第27页 |
2.2.3 光催化实验 | 第27-28页 |
2.2.4 分析测试手段 | 第28-30页 |
2.2.4.1 紫外-可见分光光度计 | 第28页 |
2.2.4.2 高效液相色谱仪(HPLC) | 第28页 |
2.2.4.3 液相色谱-质谱联用仪(LC-MS) | 第28-30页 |
第三章 Ag/AgBr-Fe_3O_4/MIL-101(Cr)磁性复合光催化剂的制备及其光催化性能 | 第30-46页 |
3.1 引言 | 第30-31页 |
3.2 复合光催化剂的表征 | 第31-38页 |
3.2.1 XRD | 第31-32页 |
3.2.2 TEM | 第32-33页 |
3.2.3 XPS | 第33-34页 |
3.2.4 UV-vis DRS | 第34-35页 |
3.2.5 PL分析 | 第35-36页 |
3.2.6 BET | 第36-37页 |
3.2.7 磁滞回线 | 第37-38页 |
3.3 光催化性能测试及机理探究 | 第38-44页 |
3.3.1 复合光催化剂性能评价 | 第38-40页 |
3.3.2 复合光催化剂稳定性考察 | 第40-42页 |
3.3.3 光催化反应机理的研究 | 第42-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 AgBr/Ag_3PO_4-Fe_3O_4/MIL-101(Cr)磁性复合光催化剂的制备及性能研究 | 第46-59页 |
4.1 引言 | 第46页 |
4.2 催化剂表征 | 第46-55页 |
4.2.1 XRD | 第46-47页 |
4.2.2 FT-IR | 第47-48页 |
4.2.3 TEM | 第48-49页 |
4.2.4 XPS | 第49-51页 |
4.2.5 UV-vis DRS | 第51-52页 |
4.2.6 PL分析 | 第52-53页 |
4.2.7 BET | 第53-54页 |
4.2.8 磁滞回曲线 | 第54-55页 |
4.3 光催化性能研究 | 第55-58页 |
4.3.1 不同催化剂对光催化性能的影响 | 第56-57页 |
4.3.2 可见光催化降解RhB的稳定性研究 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 AgBr/Ag_3PO_4-Fe_3O_4/MIL-101(Cr)磁性复合光催化剂催化降解抗生素机理探讨 | 第59-80页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 光催化降解土霉素性能研究 | 第59-70页 |
5.2.1 初始浓度的影响 | 第59-60页 |
5.2.2 pH的影响 | 第60-62页 |
5.2.3 土霉素处理前后TOC去除率 | 第62-63页 |
5.2.4 氧化基团去除土霉素能力的分析 | 第63-64页 |
5.2.5 土霉素光催化降解的HPLC/MS测试结果分析 | 第64-68页 |
5.2.6 土霉素光催化降解的机理分析 | 第68-70页 |
5.3 光催化降解氧氟沙星性能测试 | 第70-79页 |
5.3.1 初始浓度对氧氟沙星光催化降解的影响 | 第70页 |
5.3.2 pH对氧氟沙星光催化降解的影响 | 第70-71页 |
5.3.3 氧氟沙星处理前后TOC去除率 | 第71-72页 |
5.3.4 氧化基团去除氧氟沙星能力的分析 | 第72-73页 |
5.3.5 氧氟沙星光催化降解的HPLC/MS测试结果分析 | 第73-77页 |
5.3.6 氧氟沙星光催化降解的机理分析 | 第77-79页 |
5.4 本章小结 | 第79-80页 |
结论 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-93页 |
致谢 | 第93-94页 |
个人简历 | 第94-95页 |
在读期间研究成果 | 第95页 |