| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 硬质薄膜材料 | 第10-15页 |
| 1.2.1 硬质薄膜材料定义及分类 | 第10-12页 |
| 1.2.2 硬质薄膜材料的应用 | 第12-13页 |
| 1.2.3 硬质薄膜材料的发展历程以及未来趋势 | 第13-15页 |
| 1.3 TiN薄膜材料 | 第15-19页 |
| 1.3.1 TiN的性质和应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 TiN薄膜的制备工艺 | 第16-17页 |
| 1.3.3 TiN系硬质薄膜材料的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.4 论文的研究意义和研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 TiN薄膜样品的制备及测试表征 | 第21-28页 |
| 2.1 磁控溅射制备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 磁控溅射简介 | 第21-22页 |
| 2.1.2 反应磁控溅射 | 第22-23页 |
| 2.2 TiN薄膜的制备 | 第23-25页 |
| 2.2.1 TiN薄膜制备流程 | 第23-24页 |
| 2.2.2 TiN薄膜成膜过程 | 第24-25页 |
| 2.3 TiN薄膜的测试分析 | 第25-26页 |
| 2.3.1 硬度测试 | 第25页 |
| 2.3.2 厚度测试 | 第25页 |
| 2.3.3 光学性能测试 | 第25页 |
| 2.3.4 X射线衍射仪分析 | 第25-26页 |
| 2.3.5 微观形貌分析 | 第26页 |
| 2.3.6 能谱分析 | 第26页 |
| 2.4 薄膜有关参数的计算 | 第26-28页 |
| 2.4.1 薄膜硬度的计算 | 第26页 |
| 2.4.2 薄膜晶格常数的计算 | 第26-27页 |
| 2.4.3 薄膜晶粒尺寸的计算 | 第27-28页 |
| 第3章 Ti缓冲层对玻璃基TiN薄膜结构和硬度的影响 | 第28-35页 |
| 3.1 玻璃基Ti/TiN薄膜的制备 | 第29-30页 |
| 3.2 Ti缓冲层对玻璃基TiN薄膜结晶性能和形貌的影响 | 第30-32页 |
| 3.3 Ti缓冲层对玻璃基TiN薄膜硬度的影响 | 第32-34页 |
| 3.4 小结 | 第34-35页 |
| 第4章 沉积参数对玻璃基Ti/TiN薄膜结构和性能的影响 | 第35-65页 |
| 4.1 氮氩流量比的影响 | 第35-42页 |
| 4.1.1 氮氩流量比对TiN薄膜结晶性能和表面形貌的影响 | 第35-38页 |
| 4.1.2 氮氩流量比对TiN薄膜钛氮原子比的影响 | 第38-39页 |
| 4.1.3 氮氩流量比对TiN薄膜硬度的影响 | 第39-41页 |
| 4.1.4 氮氩流量比对TiN薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| 4.2 溅射时间的影响 | 第42-48页 |
| 4.2.1 溅射时间对TiN薄膜结晶性能和表面形貌的影响 | 第42-45页 |
| 4.2.2 溅射时间对TiN薄膜硬度的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.3 溅射时间对TiN薄膜光学性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 溅射气压的影响 | 第48-54页 |
| 4.3.1 溅射气压对TiN薄膜结晶性能和表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.2 溅射气压对TiN薄膜硬度的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.3 溅射气压对TiN薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 溅射功率的影响 | 第54-60页 |
| 4.4.1 溅射功率对TiN薄膜结晶性能和表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| 4.4.2 溅射功率对TiN薄膜钛氮原子比的影响 | 第56-57页 |
| 4.4.3 溅射功率对TiN薄膜硬度的影响 | 第57-58页 |
| 4.4.4 溅射功率对TiN薄膜光学性能的影响 | 第58-60页 |
| 4.5 基片温度的影响 | 第60-64页 |
| 4.5.1 基片温度对TiN薄膜结晶性能和表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| 4.5.2 基片温度对TiN薄膜硬度的影响 | 第62-63页 |
| 4.5.3 基片温度对TiN薄膜光学性能的影响 | 第63-64页 |
| 4.6 小结 | 第64-65页 |
| 第5章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第73页 |
