| 目录 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-37页 |
| ·金属的腐蚀及防护处理措施 | 第13-14页 |
| ·金属表面硅烷化防护预处理的研究现状 | 第14-24页 |
| ·硅烷的结构、分类及防护机理 | 第14-17页 |
| ·影响硅烷成膜的因素 | 第17-20页 |
| ·硅烷膜的表征方法 | 第20-23页 |
| ·传统的硅烷膜制备工艺及不足 | 第23-24页 |
| ·硅烷膜的电化学辅助制备 | 第24-25页 |
| ·硅烷膜的掺杂改性 | 第25-29页 |
| ·无机缓蚀剂掺杂改性 | 第25-27页 |
| ·有机缓蚀剂掺杂改性 | 第27页 |
| ·纳米粒子掺杂改性 | 第27-29页 |
| ·本论文的研究目的及创新点 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-37页 |
| 第二章 实验方法 | 第37-42页 |
| ·化学试剂及规格 | 第37-38页 |
| ·金属基体及前处理 | 第38-39页 |
| ·金属基体及其化学组成 | 第38页 |
| ·金属基体表面前处理 | 第38-39页 |
| ·掺杂纳米粒子硅烷膜的电沉积制备 | 第39页 |
| ·实验仪器和表征方法 | 第39-41页 |
| ·实验仪器 | 第39-40页 |
| ·物理表征 | 第40-41页 |
| ·硅烷膜腐蚀防护性能评价 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第三章 电沉积制备掺杂纳米α-TiO_2的DTMS复合硅烷膜 | 第42-60页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·实验内容和方法 | 第43-44页 |
| ·掺杂纳米TiO_2硅烷膜的电沉积制备 | 第43页 |
| ·复合硅烷膜的物理表征 | 第43页 |
| ·电化学阻抗测试 | 第43-44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-55页 |
| ·复合硅烷膜的AFM表征 | 第44-46页 |
| ·复合硅烷膜的椭偏厚度 | 第46-47页 |
| ·复合硅烷膜的红外谱图表征 | 第47-49页 |
| ·复合硅烷膜的SEM及能谱表征 | 第49-50页 |
| ·复合硅烷膜的接触角测试 | 第50-51页 |
| ·测试复合硅烷膜的EIS评价结果 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 第四章 电沉积制备掺杂纳米α-Al_2O_3的复合硅烷膜 | 第60-78页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·实验内容和方法 | 第60-61页 |
| ·掺杂纳米α-Al_2O_3的BTSE复合硅烷膜的电沉积制备 | 第60页 |
| ·复合硅烷膜的物理表征 | 第60-61页 |
| ·复合硅烷膜的EIS阻抗测试 | 第61页 |
| ·复合硅烷膜的浸泡试验 | 第61页 |
| ·实验结果与讨论 | 第61-75页 |
| ·复合硅烷膜的红外谱图表征 | 第61-63页 |
| ·复合硅烷膜的SEM及能谱表征 | 第63-66页 |
| ·复合硅烷膜的EIS评价结果 | 第66-68页 |
| ·复合硅烷膜的浸泡腐蚀拍照对比结果 | 第68-70页 |
| ·复合硅烷膜的浸泡腐蚀SEM及能谱表征 | 第70-72页 |
| ·复合硅烷膜的浸泡腐蚀EIS评价结果 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 结论 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 附录:攻读硕士期间完成的论文 | 第81页 |
