| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-49页 |
| ·纳米稀土发光材料简介 | 第12-20页 |
| ·纳米稀土发光材料的发光机制 | 第13-15页 |
| ·纳米稀土发光材料的光学特性 | 第15-16页 |
| ·纳米稀土发光材料的研究进展 | 第16-18页 |
| ·其他纳米稀土材料 | 第18-20页 |
| ·纳米稀土发光材料的制备 | 第20-27页 |
| ·化学沉淀 | 第20-21页 |
| ·水热或溶剂热法 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| ·微乳液法 | 第23-24页 |
| ·低温燃烧合成法 | 第24页 |
| ·微波合成法 | 第24-25页 |
| ·电沉积法 | 第25-27页 |
| ·纳米稀土材料的表征方法 | 第27-35页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第28-29页 |
| ·X射线能谱仪(EDS) | 第29-30页 |
| ·X射线粉末衍射法(XRD) | 第30-31页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR) | 第31-32页 |
| ·紫外-可见吸收光谱(UV-Vis) | 第32-33页 |
| ·光致发光(PL) | 第33-35页 |
| ·线性扫描伏安法(LSV) | 第35页 |
| ·纳米稀土材料的形貌控制及晶体生长机理研究 | 第35-38页 |
| ·晶粒长大现象的分类 | 第35-36页 |
| ·温度和时间的影响 | 第36页 |
| ·反应物浓度的影响 | 第36-38页 |
| ·论文的选题思想和主要内容 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-49页 |
| 第二章 电沉积制备CeF_3纳米薄膜及表征 | 第49-67页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·试剂和仪器 | 第50页 |
| ·ITO基体的前期处理 | 第50页 |
| ·实验步骤 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-61页 |
| ·CeF_3纳米薄膜的结构与形貌 | 第51-53页 |
| ·沉积电压和沉积温度对CeF_3纳米薄膜形貌的影响 | 第53-58页 |
| ·CeF_3薄膜及CeF_3:Tb薄膜的光学性能 | 第58-61页 |
| ·电沉积CeF_3薄膜的机理分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第三章 电沉积制备LaF_3,LaF_3:Ce,LaF_3:Eu,LaF_3:Tb,LaF_3:Ce:Tb纳米薄膜及表征 | 第67-89页 |
| ·引言 | 第67-68页 |
| ·实验部分 | 第68-69页 |
| ·试剂和仪器 | 第68-69页 |
| ·ITO肌体的前期处理 | 第69页 |
| ·实验步骤 | 第69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-82页 |
| ·LaF_3纳米薄膜的结构与形貌 | 第70-72页 |
| ·沉积电压对LaF_3纳米薄膜形貌的影响 | 第72-75页 |
| ·LaF_3:Ce,LaF_3:Tb,LaF_3:Eu和LaF_3:Tb:Eu薄膜的光学性能 | 第75-82页 |
| ·电沉积LaF_3薄膜的机理分析 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 第四章 室温电沉积法制备CePO_4纳米结构及表征 | 第89-107页 |
| ·引言 | 第89-90页 |
| ·实验部分 | 第90-91页 |
| ·试剂和仪器 | 第90页 |
| ·ITO基体的前期处理 | 第90页 |
| ·实验步骤 | 第90-91页 |
| ·结果与讨论 | 第91-102页 |
| ·CePO_4产物的结构、组成与形貌 | 第91-96页 |
| ·不同沉积电位对CePO_4产物形貌的影响 | 第96-99页 |
| ·CePO_4及CePO_4:Tb样品的光学性能 | 第99-102页 |
| ·机理分析 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-107页 |
| 第五章 总结与展望 | 第107-110页 |
| 致谢 | 第110页 |
