| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 辐射屏蔽研究的理论基础 | 第10-14页 |
| 1.2.1 辐射源与辐照装置 | 第10-11页 |
| 1.2.2 电离辐射概述 | 第11页 |
| 1.2.3 X射线或γ射线与物质相互作用 | 第11-14页 |
| 1.2.4 辐射屏蔽的内容和作用 | 第14页 |
| 1.3 常见辐射屏蔽材料 | 第14-15页 |
| 1.4 聚酰亚胺概述 | 第15-20页 |
| 1.4.1 聚酰亚胺的发展 | 第16-17页 |
| 1.4.2 聚酰亚胺的合成方法 | 第17-18页 |
| 1.4.3 聚酰亚胺的改性 | 第18-20页 |
| 1.5 本课题的提出及研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 课题的提出 | 第20-21页 |
| 1.5.2 课题的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 PI(FBN)复合材料的制备与性能研究 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.2.1 试剂及溶剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 仪器及测试条件 | 第23-25页 |
| 2.2.3 物理改性氮化硼 | 第25-26页 |
| 2.2.3.1 甲基三乙氧基硅烷改性氮化硼 | 第25-26页 |
| 2.2.3.2 γ-氨丙基三乙氧基硅烷偶联剂(KH550)改性氮化硼 | 第26页 |
| 2.2.4 复合材料的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.4.1 纯聚酰胺酸(PAA)的配备 | 第26-27页 |
| 2.2.4.2 烘膜制备 | 第27页 |
| 2.3 表征及性能测试 | 第27-32页 |
| 2.3.1 红外图谱表征 | 第27-28页 |
| 2.3.2 EDS光谱谱图表征 | 第28页 |
| 2.3.3 掺杂不同偶联剂的PAA溶液 | 第28-29页 |
| 2.3.4 掺杂不同改性氮化硼的聚酰亚胺薄膜 | 第29页 |
| 2.3.5 力学性能测试 | 第29-30页 |
| 2.3.6 热学性能测试 | 第30-31页 |
| 2.3.7 介电性能测试 | 第31-32页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第32-33页 |
| 第三章 三层聚酰亚胺复合材料的制备与性能研究 | 第33-39页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-37页 |
| 3.2.1 试剂及溶剂 | 第33-34页 |
| 3.2.2 仪器及测试条件 | 第34-35页 |
| 3.2.2.1 辐照源及辐照剂量率 | 第34页 |
| 3.2.2.2 测试方法 | 第34-35页 |
| 3.2.3 三层聚酰亚胺复合材料的制备 | 第35-37页 |
| 3.2.3.1 纯聚酰胺酸(PAA)的配备 | 第35页 |
| 3.2.3.2 掺杂纳米铅聚酰氨酸的制备 | 第35页 |
| 3.2.3.3 掺杂碳纳米管聚酰氨酸的制备 | 第35页 |
| 3.2.3.4 三层复合材料的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.3.5 五层复合材料的制备 | 第36-37页 |
| 3.3 性能测试 | 第37-38页 |
| 3.3.1 热学性能测试 | 第37页 |
| 3.3.2 测试数据及分析 | 第37-38页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第38-39页 |
| 第四章 总结与展望 | 第39-41页 |
| 4.1 主要结论 | 第39页 |
| 4.2 研究展望 | 第39-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第47页 |