| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 石墨烯结构 | 第10-12页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石墨烯能带结构 | 第11-12页 |
| 1.3 石墨烯特性 | 第12-15页 |
| 1.3.1 线性光学特性 | 第12-13页 |
| 1.3.2 可饱和吸收特性 | 第13-14页 |
| 1.3.3 光损伤阈值 | 第14-15页 |
| 1.4 石墨烯可饱和吸收收体传统制备方法及器件结构 | 第15-19页 |
| 1.4.1 机械剥离法 | 第15-16页 |
| 1.4.2 液相剥离法 | 第16页 |
| 1.4.3 化学氧化还原法 | 第16-17页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法 | 第17页 |
| 1.4.5 石墨烯锁模器件结构 | 第17-19页 |
| 1.5 基于石墨烯被动锁模超快激光研究进展 | 第19-21页 |
| 1.6 PECVD法生长石墨烯研究进展 | 第21-23页 |
| 1.7 本文的选题意义和研究内容 | 第23-25页 |
| 1.7.1 选题意义 | 第23页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 PECVD法生长石墨烯原理及表征方法 | 第25-33页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 PECVD 介绍 | 第25-27页 |
| 2.2.1 PECVD 原理 | 第25-26页 |
| 2.2.2 PECVD 设备系统 | 第26-27页 |
| 2.3 PECVD法生长石墨烯机制 | 第27-29页 |
| 2.3.1 石墨烯薄膜生长机理 | 第27页 |
| 2.3.2 直立石墨烯生长机理 | 第27-29页 |
| 2.4 石墨烯薄膜制备流程 | 第29页 |
| 2.4.1 衬底清洗 | 第29页 |
| 2.4.2 设备操作流程 | 第29页 |
| 2.5 石墨烯薄膜表征方法 | 第29-32页 |
| 2.5.1 紫外/可见分光光度计 | 第29-30页 |
| 2.5.2 拉曼光谱 | 第30-31页 |
| 2.5.3 X射线衍射 | 第31-32页 |
| 2.5.4 扫描电子显微镜 | 第32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 PECVD 法生长石墨烯参数研究 | 第33-42页 |
| 3.1 不同温度对石墨烯生长的研究 | 第33-35页 |
| 3.1.1 拉曼光谱 | 第34-35页 |
| 3.1.2 SEM | 第35页 |
| 3.2 不同气体流量比对石墨烯生长的研究 | 第35-37页 |
| 3.2.1 拉曼光谱 | 第36-37页 |
| 3.2.2 SEM | 第37页 |
| 3.3 不同Plasma功率对石墨烯生长的研究 | 第37-39页 |
| 3.3.1 拉曼光谱 | 第38-39页 |
| 3.3.2 SEM | 第39页 |
| 3.4 平面/直立石墨烯生长机制 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 PECVD法在光纤端面生长石墨烯及其锁模脉冲产生 | 第42-53页 |
| 4.1 石墨烯锁模器件制备 | 第42-43页 |
| 4.1.1 样品制备 | 第42页 |
| 4.1.2 石墨烯制备 | 第42-43页 |
| 4.2 锁模器件表征 | 第43-47页 |
| 4.2.1 石墨烯形貌表征 | 第43页 |
| 4.2.2 线性光学表征 | 第43-44页 |
| 4.2.3 可饱和吸收测试 | 第44-45页 |
| 4.2.4 插入损耗测试 | 第45-46页 |
| 4.2.5 物理机械测试 | 第46-47页 |
| 4.3 石墨烯被动锁模光纤激光器 | 第47-51页 |
| 4.3.1 光纤激光器系统结构 | 第47-48页 |
| 4.3.2 实验结果与讨论 | 第48-50页 |
| 4.3.3 不同条件制备石墨烯锁模结果与讨论 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第60-61页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |