摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第14-24页 |
1.1 研究背景 | 第14页 |
1.2 有机染料和抗生素的危害 | 第14-15页 |
1.3 半导体光催化作用机理 | 第15-16页 |
1.4 光催化材料研究现状及进展 | 第16-17页 |
1.5 光催化材料改性研究 | 第17-20页 |
1.5.1 离子掺杂 | 第17-18页 |
1.5.2 半导体复合 | 第18页 |
1.5.3 贵金属负载 | 第18-19页 |
1.5.4 染料光敏化 | 第19页 |
1.5.5 光催化剂纳米化 | 第19-20页 |
1.6 影响光催化剂活性的主要因素 | 第20-21页 |
1.6.1 晶体结构 | 第20页 |
1.6.2 比表面积 | 第20-21页 |
1.6.3 形貌结构 | 第21页 |
1.7 本课题研究的目的、意义、内容及创新点 | 第21-24页 |
1.7.1 选题的目的及意义 | 第21-22页 |
1.7.2 课题研究的内容及创新点 | 第22-24页 |
第2章 实验及实验分析方法 | 第24-28页 |
2.1 实验试剂 | 第24页 |
2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.3 催化剂的表征与测试 | 第25-26页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第25页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM) | 第25-26页 |
2.3.3 透射电镜(TEM)和高分辨透射电镜(HRTEM) | 第26页 |
2.3.4 紫外-可见漫反射光谱(UV-VisDRS) | 第26页 |
2.3.5 荧光光谱仪(PL) | 第26页 |
2.3.6 比表面积测试 | 第26页 |
2.4 光催化剂活性评价 | 第26-27页 |
2.5 光电流测试 | 第27-28页 |
第3章 Ag/AgCl(HS)光催化剂的制备及其性能研究 | 第28-41页 |
3.1 Ag/AgCl(HS)光催化剂的制备 | 第28-29页 |
3.1.1 Cu/Cu_2O纳米球的制备 | 第28页 |
3.1.2 Ag/Cu_2O纳米球的制备 | 第28页 |
3.1.3 Ag/AgCl(HS)中空纳米球的制备 | 第28-29页 |
3.1.4 普通Ag/AgCl材料的合成 | 第29页 |
3.2 样品表征与分析 | 第29-34页 |
3.2.1 XRD分析 | 第29-30页 |
3.2.2 SEM分析 | 第30-31页 |
3.2.3 TEM和HRTEM分析 | 第31-32页 |
3.2.4 PL和UV-VisDRS分析 | 第32-33页 |
3.2.5 BET测试分析 | 第33-34页 |
3.3 光电流分析 | 第34页 |
3.4 光催化性能测试 | 第34-36页 |
3.4.1 光催化性能测试 | 第34-35页 |
3.4.2 催化剂适用性研究 | 第35-36页 |
3.5 光催化剂稳定性研究 | 第36-37页 |
3.6 Ag/AgCl-1(HS)光催化反应机理研究 | 第37-39页 |
3.6.1 活性自由基测定 | 第37-38页 |
3.6.2 光催化机理分析 | 第38-39页 |
3.7 本章小结 | 第39-41页 |
第4章 CdS/TiO_2立体结构光催化剂的制备及其性能研究 | 第41-53页 |
4.1 CdS/TiO_2-400材料的制备 | 第41-42页 |
4.1.1 制备TiO_2 | 第41页 |
4.1.2 合成CdS/TiO_2 | 第41-42页 |
4.1.3 制备CdS/TiO_2-400光催化剂 | 第42页 |
4.2 CdS/TiO_2-400催化剂的表征 | 第42-46页 |
4.2.1 XRD分析 | 第42-43页 |
4.2.2 SEM和HRTEM分析 | 第43-44页 |
4.2.3 PL和UV-VisDRS分析 | 第44-45页 |
4.2.4 BET测试分析 | 第45-46页 |
4.2.5 光电流分析 | 第46页 |
4.3 光催化活性测试 | 第46-48页 |
4.3.1 不同催化剂性能测试 | 第46-47页 |
4.3.2 制备温度对材料光催化活性的影响 | 第47-48页 |
4.3.3 光催化剂适用性研究 | 第48页 |
4.4 CdS/TiO_2-400光催化剂稳定性研究 | 第48-49页 |
4.5 光催化反应机理研究 | 第49-51页 |
4.5.1 活性自由基测定 | 第49-50页 |
4.5.2 光催化机理分析 | 第50-51页 |
4.6 本章小结 | 第51-53页 |
结论 | 第53-55页 |
展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-66页 |
附录A 攻读学位期间发表论文 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |