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基于二维纳米材料的光纤激光器研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第16-32页
    1.1 研究背景及意义第16-19页
    1.2 光纤激光器原理第19-20页
    1.3 脉冲产生原理及技术第20-26页
        1.3.1 调Q原理及技术第21页
        1.3.2 主动调Q技术第21-22页
        1.3.3 被动调Q技术第22页
        1.3.4 锁模原理及技术第22-26页
    1.4 基于二维纳米材料的脉冲光纤激光器第26-30页
        1.4.1 基于石墨烯的光纤激光器第26-27页
        1.4.2 基于拓扑绝缘体的光纤激光器第27-29页
        1.4.3 基于其它新型二维纳米材料的光纤激光器第29-30页
    1.5 本文主要研究内容与基本框架第30-32页
第2章 基于可饱和吸收体的光纤激光器的基本理论第32-43页
    2.1 光学介质的基本特性第32-36页
        2.1.1 材料的线性光学特性及测量第32-33页
        2.1.2 材料的非线性光学特性及Zscan技术第33-35页
        2.1.3 泵浦探测技术测量材料的恢复时间第35-36页
    2.2 脉冲在光纤激光器中的传输第36-42页
        2.2.1 光纤的特性第36-38页
        2.2.2 非线性薛定谔方程第38-40页
        2.2.3 脉冲在光纤激光器中的传输第40-41页
        2.2.4 数值模拟方法第41-42页
    2.3 小结第42-43页
第3章 二维纳米材料的制备及特性第43-55页
    3.1 石墨烯的结构、性能及制备方法第43-46页
        3.1.1 石墨烯的能带结构和特性第43-44页
        3.1.2 石墨烯的制备方法第44-46页
    3.2 拓扑绝缘体材料的性能及制备方法第46-51页
        3.2.1 拓扑绝缘体材料第46-49页
        3.2.2 拓扑绝缘体材料的制备第49-51页
    3.3 二维硫化钼纳米材料的特性及其制备方法第51-54页
        3.3.1 二维硫化钼的特性第51-52页
        3.3.2 硫化钼二维纳米材料的制备第52-54页
    3.4 小结第54-55页
第4章 拓扑绝缘体调Q/锁模光纤激光器第55-67页
    4.1 引言第55-56页
    4.2 实验装置第56-57页
        4.2.1 拓扑绝缘体材料的制备第56页
        4.2.2 光纤激光器实验装置第56-57页
    4.3 实验结果及讨论第57-66页
        4.3.1 拓扑绝缘体纳米片的形貌及结构表征第57-59页
        4.3.2 调Q光纤激光器第59-61页
        4.3.3 锁模光纤激光器第61-66页
    4.4 小结第66-67页
第5章 拓扑绝缘体PMMA夹层耗散孤子光纤激光器第67-81页
    5.1 引言第67-69页
    5.2 实验装置第69-73页
        5.2.1 拓扑绝缘体的制备第69-70页
        5.2.2 材料结构表征仪器第70页
        5.2.3 PMMA-TI-PMMA结构的制备第70-71页
        5.2.4 Zscan实验装置第71页
        5.2.5 光纤激光器实验装置第71-73页
    5.3 实验结果及讨论第73-79页
        5.3.1 拓扑绝缘体纳米片的形貌及结构表征第73-75页
        5.3.2 耗散孤子脉冲激光第75-79页
    5.4 小结第79-81页
第6章 MoS2可饱和吸收体被动锁模光纤激光器第81-90页
    6.1 引言第81-82页
    6.2 实验装置第82-86页
        6.2.1 MoS_2结构表征第82-83页
        6.2.2 MoS_2可饱和吸收体的制备及其非线性光学特性测量第83-85页
        6.2.3 MoS_2光纤激光器第85-86页
    6.3 实验结果及讨论第86-89页
    6.4 小结第89-90页
结论第90-92页
参考文献第92-107页
缩写词索引第107-108页
致谢第108-110页
附录A 攻读博士学位期间已发表的论文第110-111页

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