| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 CuGaO_2的基本性质 | 第12-14页 |
| 1.3 CuGa_2O_4的基本性质 | 第14-16页 |
| 1.4 研究内容与结构安排 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 实验方法及表征方法 | 第19-26页 |
| 2.1 粉末的制备方法 | 第19-21页 |
| 2.2 薄膜的制备方法 | 第21-23页 |
| 2.3 粉末和薄膜的表征手段 | 第23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 第三章 CuGaO_2粉末、CuGa_2O_4粉末和CuGa_2O_4薄膜的制备与表征 | 第26-44页 |
| 3.1 粉末烧结的实验流程 | 第26-27页 |
| 3.1.1 前期准备 | 第26页 |
| 3.1.2 粉末的称量、研磨和烧结 | 第26-27页 |
| 3.2 粉末的表征 | 第27-31页 |
| 3.2.1 粉末的XRD表征 | 第27-30页 |
| 3.2.2 粉末的UV-Vis吸收光谱 | 第30页 |
| 3.2.3 CuGa_2O_4粉末的精修 | 第30-31页 |
| 3.3 CuGa_2O_4薄膜的制备过程 | 第31-33页 |
| 3.3.1 CuGa_2O_4靶材的制备规程 | 第31页 |
| 3.3.2 制备CuGa_2O_4薄膜的前期准备流程流程 | 第31-32页 |
| 3.3.3 制备CuGa_2O_4薄膜 | 第32-33页 |
| 3.4 CuGa_2O_4薄膜的表征 | 第33-43页 |
| 3.4.1 CuGa_2O_4薄膜的XRD表征 | 第33-34页 |
| 3.4.2 CuGa_2O_4薄膜的UV-Vis表征 | 第34-37页 |
| 3.4.3 CuGa_2O_4薄膜的厚度表征 | 第37页 |
| 3.4.4 CuGa_2O_4薄膜的表面形貌表征 | 第37-39页 |
| 3.4.5 CuGa_2O_4薄膜的XPS表征 | 第39-40页 |
| 3.4.6 CuGa_2O_4薄膜的EDS表征 | 第40-41页 |
| 3.4.7 CuGa_2O_4薄膜的TEM表征 | 第41-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第四章 总结与展望 | 第44-47页 |
| 4.1 总结 | 第44-45页 |
| 4.2 展望 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-49页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果列表 | 第49页 |
