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微纳特征结构评价与表面表征方法研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
第一章 绪论第8-13页
    1.1 超精密加工技术的发展及其计量需求第8页
    1.2 纳米计量的研究现状和发展趋势第8-10页
        1.2.1 微纳特征结构表征的研究现状第9-10页
        1.2.2 微观表面表征的研究现状和发展趋势第10页
    1.3 纳米计量常用的测量方法第10-12页
    1.4 课题的研究意义与论文主要工作第12-13页
第二章 测量原理与系统第13-22页
    2.1 原子力显微测量原理与系统第13-16页
        2.1.1 原子力显微术第13-14页
        2.1.2 基于纳米测量机的计量型AFM系统第14-16页
    2.2 光学轮廓术测量原理与系统第16-22页
        2.2.1 相移干涉术的测量原理第16-17页
        2.2.2 白光扫描干涉的测量原理第17-19页
        2.2.3 微结构光学测试系统第19-22页
第三章 微纳特征结构的评价方法第22-42页
    3.1 台阶结构的评价第22-26页
        3.1.1 台阶高度的评价方法第23-26页
        3.1.2 实验结果分析第26页
    3.2 一维栅格结构的评价第26-33页
        3.2.1 一维栅距的评价方法第27-30页
        3.2.2 实验结果分析第30-33页
    3.3 线宽结构的评价第33-42页
        3.3.1 线宽的测量模型第33-35页
        3.3.2 线宽结构的评价方法第35-37页
        3.3.3 仿真结果分析第37-42页
第四章 超精密加工表面表征方法第42-66页
    4.1 表面滤波分离第42-48页
        4.1.1 高斯滤波器的定义第43页
        4.1.2 高斯滤波器的数值实现第43-46页
        4.1.3 仿真数据滤波第46-48页
    4.2 表面粗糙度参数第48-53页
        4.2.1 表面粗糙度的评价基准第48-49页
        4.2.2 表面粗糙度的表征参数第49-51页
        4.2.3 三维表面粗糙度参数第51-53页
    4.3 实验结果与分析第53-66页
        4.3.1 相移干涉测量结果与分析第53-57页
        4.3.2 原子力显微术测量结果与分析第57-61页
        4.3.3 不同测量方法的评价结果对比第61-66页
第五章 总结和展望第66-67页
参考文献第67-70页
发表论文和参加科研情况说明第70-71页
致谢第71页

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