微纳特征结构评价与表面表征方法研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 超精密加工技术的发展及其计量需求 | 第8页 |
| 1.2 纳米计量的研究现状和发展趋势 | 第8-10页 |
| 1.2.1 微纳特征结构表征的研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 微观表面表征的研究现状和发展趋势 | 第10页 |
| 1.3 纳米计量常用的测量方法 | 第10-12页 |
| 1.4 课题的研究意义与论文主要工作 | 第12-13页 |
| 第二章 测量原理与系统 | 第13-22页 |
| 2.1 原子力显微测量原理与系统 | 第13-16页 |
| 2.1.1 原子力显微术 | 第13-14页 |
| 2.1.2 基于纳米测量机的计量型AFM系统 | 第14-16页 |
| 2.2 光学轮廓术测量原理与系统 | 第16-22页 |
| 2.2.1 相移干涉术的测量原理 | 第16-17页 |
| 2.2.2 白光扫描干涉的测量原理 | 第17-19页 |
| 2.2.3 微结构光学测试系统 | 第19-22页 |
| 第三章 微纳特征结构的评价方法 | 第22-42页 |
| 3.1 台阶结构的评价 | 第22-26页 |
| 3.1.1 台阶高度的评价方法 | 第23-26页 |
| 3.1.2 实验结果分析 | 第26页 |
| 3.2 一维栅格结构的评价 | 第26-33页 |
| 3.2.1 一维栅距的评价方法 | 第27-30页 |
| 3.2.2 实验结果分析 | 第30-33页 |
| 3.3 线宽结构的评价 | 第33-42页 |
| 3.3.1 线宽的测量模型 | 第33-35页 |
| 3.3.2 线宽结构的评价方法 | 第35-37页 |
| 3.3.3 仿真结果分析 | 第37-42页 |
| 第四章 超精密加工表面表征方法 | 第42-66页 |
| 4.1 表面滤波分离 | 第42-48页 |
| 4.1.1 高斯滤波器的定义 | 第43页 |
| 4.1.2 高斯滤波器的数值实现 | 第43-46页 |
| 4.1.3 仿真数据滤波 | 第46-48页 |
| 4.2 表面粗糙度参数 | 第48-53页 |
| 4.2.1 表面粗糙度的评价基准 | 第48-49页 |
| 4.2.2 表面粗糙度的表征参数 | 第49-51页 |
| 4.2.3 三维表面粗糙度参数 | 第51-53页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第53-66页 |
| 4.3.1 相移干涉测量结果与分析 | 第53-57页 |
| 4.3.2 原子力显微术测量结果与分析 | 第57-61页 |
| 4.3.3 不同测量方法的评价结果对比 | 第61-66页 |
| 第五章 总结和展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
