| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·ZnO的结构和基本性质 | 第9-11页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-11页 |
| ·研究背景和意义 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究目的和重点 | 第13-15页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜试验 | 第15-33页 |
| ·ZnO薄膜的主要制备方法 | 第15-20页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
| ·喷雾热解法(Spray Pyrolysis) | 第18-19页 |
| ·分子束外延(MEB) | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的原理及优缺点 | 第20-24页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的基本原理 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的形成原理 | 第21-23页 |
| ·溶胶-凝胶法的优缺点 | 第23-24页 |
| ·本论文实验所用原料与设备 | 第24-25页 |
| ·实验所用原料 | 第24页 |
| ·实验所用设备 | 第24-25页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第25-30页 |
| ·ZnO薄膜的制备工艺流程 | 第25-26页 |
| ·溶胶的配制 | 第26-27页 |
| ·基板的选择与清洗 | 第27页 |
| ·浸渍提拉法镀膜 | 第27-28页 |
| ·旋转涂敷法镀膜 | 第28-29页 |
| ·薄膜预热及退火热处理 | 第29-30页 |
| ·分析测试方法 | 第30-33页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第32-33页 |
| 第三章 ZnO掺杂的理论与计算 | 第33-50页 |
| ·第一性原理方法简介 | 第33-38页 |
| ·MS软件主要理论模拟方法 | 第33-34页 |
| ·能带理论 | 第34-35页 |
| ·态密度 | 第35页 |
| ·第一性原理 | 第35-37页 |
| ·ZnO掺杂理论及晶体结构 | 第37-38页 |
| ·IB族掺杂对ZnO的影响 | 第38-46页 |
| ·Cu掺杂ZnO | 第38-43页 |
| ·计算方法和模型 | 第38-39页 |
| ·能带分析 | 第39-41页 |
| ·态密度分析 | 第41-43页 |
| ·Ag掺杂ZnO | 第43-46页 |
| ·计算方法和模型 | 第43页 |
| ·能带分析 | 第43-44页 |
| ·态密度分析 | 第44-46页 |
| ·Al与IB族共掺杂对ZnO的影响 | 第46-49页 |
| ·Al、Ag共掺杂ZnO | 第46-49页 |
| ·计算方法和模型 | 第46-47页 |
| ·能带分析 | 第47-48页 |
| ·态密度分析 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 制膜工艺对ZnO薄膜性能的影响分析 | 第50-68页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜性能的影响 | 第50-58页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜结构的影响 | 第52-56页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜透光性的影响 | 第56-58页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第58-64页 |
| ·退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·退火温度对薄膜结构的影响 | 第59-62页 |
| ·退火温度对薄膜透光性的影响 | 第62-64页 |
| ·镀膜层数对薄膜性能的影响 | 第64-67页 |
| ·镀膜层数对薄膜表面形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·镀膜层数对薄膜透光性的影响 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 附录A 攻读学位其间发表论文目录 | 第75页 |