| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 TiO_2的基本性质 | 第10-13页 |
| 1.1.1 TiO_2的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.1.2 TiO_2的光学性质 | 第11-12页 |
| 1.1.3 TiO_2的光催化性质 | 第12-13页 |
| 1.2 TiO_2薄膜材料的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 TiO_2薄膜材料的研究概况 | 第14-16页 |
| 1.3.1 稀土元素Gd掺杂对TiO_2光催化性质的修饰 | 第15页 |
| 1.3.2 Ag覆盖对TiO_2光催化性质的修饰 | 第15-16页 |
| 1.4 本论文的研究目的与内容 | 第16-17页 |
| 2 薄膜样品的制备与表征 | 第17-25页 |
| 2.1 薄膜样品的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.1.1 磁控溅射法基本原理 | 第17-18页 |
| 2.1.2 溶胶-凝胶法基本原理 | 第18页 |
| 2.1.3 实验设备 | 第18-19页 |
| 2.2 薄膜样品的表征方法 | 第19-25页 |
| 2.2.1 电子探针显微分析(EPMA) | 第19-20页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD)谱仪 | 第20-21页 |
| 2.2.3 稳态/瞬态荧光光谱仪 | 第21-22页 |
| 2.2.4 X射线光电子谱(XPS)仪 | 第22-23页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| 2.2.6 光催化实验装置 | 第24-25页 |
| 3 Ag覆盖TiO_2薄膜制备及表征 | 第25-36页 |
| 3.1 Ag覆盖TiO_2薄膜的制备方法 | 第25-26页 |
| 3.2 Ag覆盖TiO_2薄膜的表征手段 | 第26页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第26-34页 |
| 3.3.1 TiO_2薄膜的微观结构 | 第26-27页 |
| 3.3.2 Ag覆盖TiO_2薄膜的表面形貌 | 第27-31页 |
| 3.3.3 Ag膜与Ag覆盖TiO_2薄膜的光学性质 | 第31-33页 |
| 3.3.4 Ag覆盖TiO_2薄膜的光催化性能 | 第33-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 4 反应直流磁控溅射制备Gd掺杂TiO_2薄膜及表征 | 第36-46页 |
| 4.1 Gd掺杂TiO_2薄膜的制备方法 | 第36页 |
| 4.2 Gd掺杂TiO_2薄膜的表征手段 | 第36-37页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第37-44页 |
| 4.3.1 Gd掺杂TiO_2薄膜的微观结构 | 第37-38页 |
| 4.3.2 Gd掺杂TiO_2薄膜的表面形貌 | 第38-39页 |
| 4.3.3 Gd掺杂TiO_2薄膜的X射线光电子谱 | 第39-40页 |
| 4.3.4 Gd掺杂TiO_2薄膜的透过率与光学带隙 | 第40-42页 |
| 4.3.5 Gd掺杂TiO_2薄膜的光致荧光谱 | 第42-43页 |
| 4.3.6 Gd掺杂TiO_2薄膜的光催化性能 | 第43-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
