| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 光分解水领域的简介及研究现状 | 第11-15页 |
| 1.1.1 光分解水的原理 | 第11-13页 |
| 1.1.2 光分解水领域的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2 TiO_2在光分解水领域中的应用 | 第15-16页 |
| 1.2.1 TiO_2的基本介绍 | 第15页 |
| 1.2.2 TiO_2在光分解水领域的应用 | 第15页 |
| 1.2.3 过渡金属元素掺杂的优势 | 第15-16页 |
| 1.2.4 选择过渡元素Zn的原因 | 第16页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 Zn掺杂TiO_2薄膜的制备 | 第17-21页 |
| 2.1 TiO_2薄膜的制备方法 | 第17页 |
| 2.2 薄膜制备过程 | 第17-19页 |
| 2.2.1 实验设备及实验原料 | 第17-18页 |
| 2.2.2 薄膜的制备 | 第18-19页 |
| 2.3 主要表征仪器与测试方法 | 第19页 |
| 2.4 薄膜厚度的测定 | 第19-20页 |
| 2.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 不同退火方式对Zn-TiO_2薄膜光分解水性能的影响 | 第21-40页 |
| 3.1 两种退火方式的介绍 | 第21-22页 |
| 3.2 Zn元素含量的调控 | 第22-24页 |
| 3.3 两种退火方式得到的薄膜的性能对比 | 第24-39页 |
| 3.3.1 拉曼光谱分析 | 第24-26页 |
| 3.3.2 光电化学分析 | 第26-31页 |
| 3.3.3 XRD分析 | 第31-33页 |
| 3.3.4 SEM分析 | 第33-34页 |
| 3.3.5 XPS分析 | 第34-38页 |
| 3.3.6 光吸收谱分析 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 不同快速退火温度对Zn-TiO_2薄膜性能的影响 | 第40-50页 |
| 4.1 XRD分析 | 第40-41页 |
| 4.2 XPS价带边分析和光吸收谱 | 第41-44页 |
| 4.3 石英衬底上薄膜的SEM分析 | 第44-45页 |
| 4.4 光电化学分析 | 第45-46页 |
| 4.5 光吸收谱分析 | 第46-47页 |
| 4.6 FTO衬底上薄膜的SEM和AFM分析 | 第47-49页 |
| 4.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 溅射偏压对Zn-TiO_2薄膜性能的影响 | 第50-53页 |
| 5.1 光电化学分析 | 第50-51页 |
| 5.2 SEM分析 | 第51页 |
| 5.3 光吸收谱 | 第51-52页 |
| 5.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 附录 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |