| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 半导体光催化作用基本原理 | 第13页 |
| 1.2 半导体的改性方法 | 第13-16页 |
| 1.2.1 特殊空间形貌 | 第14页 |
| 1.2.2 暴露活性晶面 | 第14页 |
| 1.2.3 半导体-半导体复合 | 第14-15页 |
| 1.2.4 掺杂 | 第15页 |
| 1.2.5 贵金属沉积 | 第15页 |
| 1.2.6 染料光敏化 | 第15-16页 |
| 1.2.7 与基质复合 | 第16页 |
| 1.3 石墨烯增强复合光催化剂催化性能基本原理 | 第16-18页 |
| 1.3.1 石墨烯的简介 | 第16-17页 |
| 1.3.2 石墨烯半导体复合光催化剂催化性能增强的基本原理 | 第17-18页 |
| 1.4 石墨烯半导体光催化剂的制备 | 第18-21页 |
| 1.4.1 原位生长法 | 第18-21页 |
| 1.4.2 非原位生长法 | 第21页 |
| 1.5 微波合成法在石墨烯半导体光催化剂制备中的应用 | 第21-23页 |
| 1.5.1 微波-水热/溶剂法 | 第22-23页 |
| 1.5.2 微波-离子液体法 | 第23页 |
| 1.5.3 微波-多元醇法 | 第23页 |
| 1.6 石墨烯半导体光催化剂的应用 | 第23-25页 |
| 1.6.1 光催化处理难降解污染物 | 第23-24页 |
| 1.6.2 光催化杀菌 | 第24页 |
| 1.6.3 光催化产氢 | 第24-25页 |
| 1.7 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-34页 |
| 2.1 实验试剂 | 第28页 |
| 2.2 实验仪器 | 第28-30页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.2.2 聚焦单模微波合成仪 | 第29页 |
| 2.2.3 光催化反应装置 | 第29-30页 |
| 2.3 表征方法 | 第30-31页 |
| 2.3.1 XRD表征 | 第30页 |
| 2.3.2 TEM表征 | 第30页 |
| 2.3.3 FTIR表征 | 第30页 |
| 2.3.4 UV-vis DRS表征 | 第30-31页 |
| 2.3.5 PL表征 | 第31页 |
| 2.3.6 XPS表征 | 第31页 |
| 2.4 光催化活性检测 | 第31-34页 |
| 2.4.1 目标降解物 | 第31页 |
| 2.4.2 光催化检测步骤 | 第31-32页 |
| 2.4.3 光催化反应动力学理论 | 第32-34页 |
| 第三章 RGO/TiO_2及RGO/CdS二元复合光催化剂的微波合成及性能研究 | 第34-56页 |
| 3.0 引言 | 第34-35页 |
| 3.1 RGO/TiO_2及RGO/CdS二元复合光催化剂的制备 | 第35页 |
| 3.1.1 暴露{001}高能面RGO/TiO_2复合光催化剂的制备 | 第35页 |
| 3.1.2 RGO/CdS复合光催化剂的制备 | 第35页 |
| 3.2 RGO/TiO_2的表征与讨论 | 第35-40页 |
| 3.2.1 XRD分析 | 第35-37页 |
| 3.2.2 TEM分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 FTIR分析 | 第38页 |
| 3.2.4 UV-Vis DRS分析 | 第38-39页 |
| 3.2.5 XPS分析 | 第39-40页 |
| 3.3 RGO/TiO_2光催化检测结果 | 第40-43页 |
| 3.3.1 合成温度对RGO/TiO_2光催化性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 合成时间对RGO/TiO_2光催化性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 石墨烯含量对RGO/TiO_2光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 RGO/TiO_2的可见光催化活性增强机理 | 第43-45页 |
| 3.4.1 暴露{001}高能面可见光催化活性增强机理 | 第43-44页 |
| 3.4.2 石墨烯基质可见光催化活性增强机理 | 第44-45页 |
| 3.5 RGO/CdS的表征与讨论 | 第45-50页 |
| 3.5.1 XRD分析 | 第45-46页 |
| 3.5.2 TEM分析 | 第46-47页 |
| 3.5.3 FTIR分析 | 第47-48页 |
| 3.5.4 UV-Vis DRS分析 | 第48-49页 |
| 3.5.5 XPS分析 | 第49-50页 |
| 3.6 RGO/CdS光催化检测结果 | 第50-53页 |
| 3.6.1 合成温度对RGO/CdS光催化性能的影响 | 第50-51页 |
| 3.6.2 合成时间对RGO/CdS光催化性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.6.3 石墨烯浓度对RGO/CdS光催化性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.7 本章小结 | 第53-56页 |
| 第四章 RGO/CdS/TiO_2三元复合光催化剂的微波合成及性能研究 | 第56-66页 |
| 4.0 引言 | 第56页 |
| 4.1 RGO/CdS/TiO_2的制备 | 第56-57页 |
| 4.2 材料的表征与讨论 | 第57-63页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第57-58页 |
| 4.2.2 TEM分析 | 第58-59页 |
| 4.2.3 FTIR分析 | 第59-60页 |
| 4.2.4 UV-Vis DRS分析 | 第60页 |
| 4.2.5 PL分析 | 第60-61页 |
| 4.2.6 XPS分析 | 第61-63页 |
| 4.3 光催化检测结果 | 第63-64页 |
| 4.4 光催化活性增强机理 | 第64-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-80页 |
| 附录 | 第80页 |
