| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| §1.1 引言 | 第9-10页 |
| §1.2 WO_3概述 | 第10-18页 |
| §1.2.1 WO_3晶体结构 | 第10-11页 |
| §1.2.2 WO_3薄膜的变色机理 | 第11-13页 |
| §1.2.3 WO_3薄膜的现实应用及存在的问题 | 第13-14页 |
| §1.2.4 WO_3薄膜的研究现状 | 第14-16页 |
| §1.2.5 WO_3基掺杂的研究现状 | 第16-18页 |
| §1.3 课题主要研究内容 | 第18页 |
| §1.4 小结 | 第18-19页 |
| 第二章 样品的制备及表征 | 第19-28页 |
| §2.1 磁控溅射镀膜及其原理 | 第19-21页 |
| §2.2 薄膜制备 | 第21-24页 |
| §2.2.1 基片清洗 | 第21页 |
| §2.2.2 复合靶材制备 | 第21-22页 |
| §2.2.3 溅射镀膜 | 第22-23页 |
| §2.2.4 电解质的配置 | 第23-24页 |
| §2.3 薄膜性能表征 | 第24-27页 |
| §2.3.1 薄膜微结构的表征 | 第25页 |
| §2.3.2 薄膜形貌的表征 | 第25页 |
| §2.3.3 薄膜组分及价态的表征 | 第25页 |
| §2.3.4 薄膜光学性能的表征 | 第25-27页 |
| §2.4 小结 | 第27-28页 |
| 第三章 Ag-WO_3复合薄膜的微结构、组分 #20及电致变色性能的研究 | 第28-56页 |
| §3.1 Ag含量对薄膜性质的影响 | 第28-44页 |
| §3.1.1 Ag含量对薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
| §3.1.2 Ag含量对薄膜表面形貌的影响 | 第29-30页 |
| §3.1.3 Ag含量对薄膜光学性能的影响 | 第30-36页 |
| §3.1.4 复合薄膜的组分及化学价态分析 | 第36-39页 |
| §3.1.5 Ag含量对薄膜电致变色性能的影响 | 第39-43页 |
| §3.1.6 小结 | 第43-44页 |
| §3.2 溅射时间对薄膜性质的影响 | 第44-56页 |
| §3.2.1 溅射时间对薄膜结构的影响 | 第44-45页 |
| §3.2.2 溅射时间对薄膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| §3.2.3 溅射时间对薄膜光学性能的影响 | 第46-47页 |
| §3.2.4 溅射时间对薄膜电致变色性能的影响 | 第47-55页 |
| §3.2.5 小结 | 第55-56页 |
| 第四章 结论与展望 | 第56-59页 |
| §4.1 结论 | 第56-58页 |
| §4.2 后续工作展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第66页 |