| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 光电化学池裂解水 | 第13-16页 |
| 1.2.1 光电化学池装置及结构 | 第13页 |
| 1.2.2 光电化学池裂解水基本原理 | 第13-15页 |
| 1.2.3 影响光电化学裂解水效率的主要因素 | 第15-16页 |
| 1.3 In_2O_3材料的基本性质 | 第16页 |
| 1.4 In_2O_3材料的光电化学方向研究进展 | 第16-21页 |
| 1.4.1 In_2O_3光电极研究现状及存在问题 | 第16-17页 |
| 1.4.2 提高光电化学池光阳极材料裂解水性能主要途径 | 第17-21页 |
| 1.5 In_2O_3基纳米材料制备方法 | 第21-23页 |
| 1.5.1 电沉积法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 热处理 | 第22页 |
| 1.5.3 水热法 | 第22-23页 |
| 1.6 本课题的研究思路 | 第23-24页 |
| 第二章 氢处理In_2O_3纳米方块制备及其光电化学性能测试 | 第24-41页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-28页 |
| 2.2.1 实验试剂和仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第26-27页 |
| 2.2.3 测试与表征 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-34页 |
| 2.3.1 材料物相和结构表征 | 第28-32页 |
| 2.3.2 光电化学性能测试 | 第32-34页 |
| 2.4 材料性能提升机理分析与证明 | 第34-39页 |
| 2.4.1 光电化学机理分析 | 第34-35页 |
| 2.4.2 光电化学机理证明 | 第35-39页 |
| 2.5 本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章 H-In_2O_3/Ag纳米方块制备及其光电化学性能测试 | 第41-55页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 实验部分 | 第41-42页 |
| 3.2.1 实验试剂和仪器 | 第41-42页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第42页 |
| 3.2.3 测试与表征 | 第42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-49页 |
| 3.3.1 材料物相和结构表征 | 第42-46页 |
| 3.3.2 光电化学性能测试 | 第46-49页 |
| 3.4 材料性能提升机理分析与证明 | 第49-53页 |
| 3.4.1 光电化学性能机理分析 | 第49页 |
| 3.4.2 光电化学机理证明 | 第49-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 H-In_2O_3/Ag/In2S3纳米方块制备及其光电化学性能测试 | 第55-68页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 实验部分 | 第56页 |
| 4.2.1 实验试剂和仪器 | 第56页 |
| 4.2.2 样品制备 | 第56页 |
| 4.2.3 测试与表征 | 第56页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第56-63页 |
| 4.3.1 材料物相和结构表征 | 第56-59页 |
| 4.3.2 光电化学性能测试 | 第59-63页 |
| 4.4 材料性能提升机理分析与证明 | 第63-66页 |
| 4.4.1 光电化学性能机理分析 | 第63页 |
| 4.4.2 光电化学机理证明 | 第63-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 结论 | 第68-69页 |
| 5.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第82页 |
