| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 药型罩研究现状及进展 | 第11-16页 |
| 1.1.1 药型罩材料研究 | 第11-13页 |
| 1.1.2 药型罩制备工艺研究 | 第13-16页 |
| 1.2 CVD设备及工艺研究 | 第16-19页 |
| 1.2.1 CVD制备纯钨制品的沉积设备及沉积工艺研究 | 第16-18页 |
| 1.2.2 CVD制备纯钨药型罩的沉积设备及沉积工艺研究 | 第18-19页 |
| 1.3 CVD制备大口径纯钨药型罩研究现状 | 第19-21页 |
| 1.3.1 沉积设备问题 | 第19-20页 |
| 1.3.2 沉积工艺问题 | 第20页 |
| 1.3.3 破甲特性研究 | 第20-21页 |
| 1.4 论文研究意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 1.4.1 论文研究意义 | 第21-22页 |
| 1.4.2 论文研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 大口径纯钨药型罩CVD制备问题分析及设备改进 | 第23-35页 |
| 2.1 通气管路的改进 | 第23-27页 |
| 2.1.1 通气管路不畅问题产生的影响及其产生的原因 | 第23-25页 |
| 2.1.2 通气管路简化、净化改进 | 第25-26页 |
| 2.1.3 通气管路改进后的实验成果 | 第26-27页 |
| 2.2 气体流量控制装置的调试和改进 | 第27-31页 |
| 2.2.1 药型罩表面质量问题产生的影响及其产生的原因 | 第27-30页 |
| 2.2.2 气控阀门的调试和改进 | 第30页 |
| 2.2.3 气体流量控制装置的改进对药型罩表面质量的影响 | 第30-31页 |
| 2.3 加热装置的调试和改进 | 第31-34页 |
| 2.3.1 药型罩壁厚不均问题产生的影响及其产生的原因 | 第31-32页 |
| 2.3.2 加热装置的调试和改进 | 第32-33页 |
| 2.3.3 加热装置改进对药型罩壁厚均匀性的影响 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 大口径纯钨药型罩CVD制备工艺与组织优化研究 | 第35-50页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 沉积工艺对沉积层组织的影响 | 第35-36页 |
| 3.3 沉积工艺的初步调整 | 第36-39页 |
| 3.4 沉积工艺的优化 | 第39-43页 |
| 3.4.1 CVD沉积层组织特征 | 第39-40页 |
| 3.4.2 典型的CVD沉积工艺 | 第40-41页 |
| 3.4.3 沉积工艺对沉积层组织形貌特征的影响规律 | 第41-43页 |
| 3.5 工艺优化前后药型罩质量及组织特征对比 | 第43-49页 |
| 3.5.1 致密度分析 | 第43-44页 |
| 3.5.2 微观组织形貌分析 | 第44-45页 |
| 3.5.3 微观组织类型转化特征分析 | 第45-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 CVD大口径纯钨药型罩破甲特性研究 | 第50-57页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 静破甲试验装置及试验条件 | 第50-51页 |
| 4.3 CVD大口径纯钨药型罩破甲特征分析 | 第51-53页 |
| 4.3.1 静破甲试验穿深 | 第51页 |
| 4.3.2 弹口形貌特征分析 | 第51-52页 |
| 4.3.3 弹道宏观形貌特征分析 | 第52-53页 |
| 4.4 射流侵彻靶板后的弹道微观组织特征分析 | 第53-56页 |
| 4.4.1 弹道微观组织形貌特征分析 | 第53页 |
| 4.4.2 射流与靶板作用机理 | 第53-55页 |
| 4.4.3 靶板微观组织不同变形区硬度分析 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 大口径纯钨药型罩在爆炸加载条件下的变形机制研究 | 第57-64页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 杵体宏观形貌及微观组织特征分析 | 第57-59页 |
| 5.3 杵体晶粒取向差分析 | 第59-62页 |
| 5.4 纯钨变形机制分析 | 第62-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
