非催化衬底上石墨烯的直接生长与物性研究
中文摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第9-26页 |
1.1 石墨烯的简介 | 第9-10页 |
1.2 石墨烯的结构和性质 | 第10-14页 |
1.2.1 石墨烯的结构 | 第10-11页 |
1.2.2 石墨烯的性质 | 第11-14页 |
1.3 石墨烯的表征方法 | 第14-19页 |
1.3.1 光学显微镜 | 第15-16页 |
1.3.2 拉曼光谱 | 第16-17页 |
1.3.3 原子力显微镜 | 第17-18页 |
1.3.4 透射电子显微镜 | 第18-19页 |
1.4 化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯 | 第19-23页 |
1.4.1 化学气相沉积法 | 第20-22页 |
1.4.2 等离子体增强化学气相沉积 | 第22-23页 |
1.5 本文的选题背景与研究内容 | 第23-26页 |
第二章 乙烯碳源CVD生长石墨烯的研究 | 第26-38页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 乙烯碳源低温CVD法制备石墨烯 | 第26-30页 |
2.2.1 实验内容 | 第27-29页 |
2.2.2 结果与讨论 | 第29-30页 |
2.3 乙烯碳源高温CVD法制备石墨烯 | 第30-36页 |
2.3.1 实验内容 | 第31-32页 |
2.3.2 结果与讨论 | 第32-36页 |
2.4 本章总结 | 第36-38页 |
第三章 PECVD生长石墨烯的研究 | 第38-50页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 氮化镓衬底上石墨烯的PECVD生长研究 | 第38-48页 |
3.2.1 实验内容 | 第39-40页 |
3.2.2 结果与讨论 | 第40-48页 |
3.3 本章小结 | 第48-50页 |
第四章 石墨烯的性质与应用探讨 | 第50-60页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 石墨烯的缺陷研究 | 第50-55页 |
4.2.1 实验内容 | 第51页 |
4.2.2 结果与讨论 | 第51-55页 |
4.2.3 小结 | 第55页 |
4.3 石墨烯的应用探讨 | 第55-59页 |
4.3.1 氨气探测器应用 | 第55-56页 |
4.3.2 透明导电电极应用 | 第56-58页 |
4.3.3 表面自清洁应用 | 第58-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 总结和展望 | 第60-63页 |
5.1 本论文工作总结 | 第60-61页 |
5.2 对未来工作的展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |