| 第1章 文献综述 | 第7-22页 |
| 1.1：导电陶瓷材料简介 | 第7页 |
| 1.2：导电陶瓷材料的导电机制 | 第7-8页 |
| 1.3：La_2NiO_4导电陶瓷结构研究简介 | 第8-17页 |
| 1.3.1：概述 | 第8-12页 |
| 1.3.2：A_2BO_4型复合氧化合物的结构类型及其相互转变 | 第12-14页 |
| 1.3.3：A_2BO_4型复合氧化物中轴比c／a及A-O、B-O键的性质 | 第14-15页 |
| 1.3.4：La_2NiO_4的非化学计量现象 | 第15-17页 |
| 1.4：LaFe_xNi_(1-x)O_3固溶体结构研究 | 第17-21页 |
| 1.4.1：固溶体简介 | 第17-18页 |
| 1.4.1.1：固溶体分类 | 第17页 |
| 1.4.1.2：对固溶体形成的要求 | 第17-18页 |
| 1.4.1.3：研究固溶体的实验方法 | 第18页 |
| 1.4.2：LaFe_xNi_(1-x)O_3的结构研究 | 第18-21页 |
| 1.5：本论文主要内容及意义 | 第21-22页 |
| 第2章 实验部分 | 第22-26页 |
| 2.1：样品的制备 | 第22-24页 |
| 2.1.1：La-Ni-O／La-Fe-Ni-O样品的制备 | 第22-23页 |
| 2.1.2：Ag／导电陶瓷复合材料的制备 | 第23-24页 |
| 2.1.2.1：类金属导电陶瓷含量 | 第23页 |
| 2.1.2.2：其它添加物含量 | 第23-24页 |
| 2.1.2.3：材料的制备工艺 | 第24页 |
| 2.2：样品的检测 | 第24-26页 |
| 2.2.1：主要仪器 | 第24页 |
| 2.2.2：主要使用软件 | 第24-25页 |
| 2.2.3：样品的XRD实验 | 第25页 |
| 2.2.4：样品的微观形貌试验 | 第25-26页 |
| 第3章 XRD实验原理简介 | 第26-34页 |
| 3.1：引言 | 第26页 |
| 3.2：XRD简介 | 第26-30页 |
| 3.2.1：X射线的产生 | 第26-27页 |
| 3.2.2：多晶X射线衍射 | 第27-30页 |
| 3.2.2.1：X射线衍射原理 | 第27-29页 |
| 3.2.2.2：多晶X射线积分强度 | 第29-30页 |
| 3.3：实验仪器与装置 | 第30-31页 |
| 3.4：XRD分析方法简介 | 第31-34页 |
| 3.4.1：物相定性方法简介 | 第32页 |
| 3.4.2：定量分析方法简介 | 第32-34页 |
| 第4章 La_2NiO_4陶瓷材料XRD研究 | 第34-46页 |
| 4.1：1450℃烧结温度下不同配比样品的XRD分析 | 第34-39页 |
| 4.1.1：样品的物相鉴定 | 第34-35页 |
| 4.1.2：样品的物相组成定量分析 | 第35-36页 |
| 4.1.3：晶格常数的精确测定 | 第36-38页 |
| 4.1.4：材料晶粒尺寸的求解 | 第38-39页 |
| 4.2：不同烧结温度下X_(La)∶X_(Ni)为1∶1的样品的XRD分析 | 第39-43页 |
| 4.3：不同烧结温度下X_(La)∶X_(Ni)为2∶3的样品的XRD分析 | 第43-44页 |
| 4.4：X_(La)∶X_(Ni)为3∶1的样品在空气中相变分析 | 第44-45页 |
| 4.5：本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 La-Fe-Ni-O陶瓷材料结构研究 | 第46-55页 |
| 5.1：引言 | 第46页 |
| 5.2：La-Fe-Ni-O陶瓷的结构分析 | 第46-53页 |
| 5.2.1：物相鉴定 | 第46-50页 |
| 5.2.2：晶格常数的精确测定 | 第50-53页 |
| 5.3：LaFe_(0.25)Ni_(0.75)O_3烧蚀实验 | 第53-54页 |
| 5.4：本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 球磨及退火对复合材料结构的影响 | 第55-61页 |
| 6.1：粉料制备 | 第55页 |
| 6.2：粉料性能检测 | 第55-59页 |
| 6.2.1：粉料球磨过程的非晶化 | 第55-58页 |
| 6.2.2：粉料退火再结晶 | 第58-59页 |
| 6.3：本章小节 | 第59-61页 |
| 第7章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第66页 |
