中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-16页 |
1.1 高压物理学简介 | 第9-10页 |
1.2 高压产生装置 | 第10-13页 |
1.2.1 金刚石对顶砧(diamond anvil cell, DAC) | 第11-13页 |
1.2.2 金刚石对顶砧的原理 | 第13页 |
1.3 高压物理学研究意义 | 第13-14页 |
1.4 论文选题的目的和意义 | 第14页 |
1.5 论文各部分主要内容 | 第14-16页 |
第二章 高压原位电学测量 | 第16-24页 |
2.1 绝缘垫片的制作 | 第16-18页 |
2.1.1 垫片的分类 | 第16页 |
2.1.2 绝缘垫片的制作 | 第16-18页 |
2.2 金刚石对顶砧上的电极集成 | 第18-23页 |
2.2.1 金属钼电极溅射及光刻 | 第18-19页 |
2.2.2 氧化铝薄膜的溅射及光刻 | 第19-20页 |
2.2.3 四电极的制备和样品组装 | 第20-21页 |
2.2.4 两电极的制备和样品组装 | 第21-23页 |
2.3 本章小结 | 第23-24页 |
第三章 高压下含水玄武岩玻璃的结构问题的研究 | 第24-38页 |
3.1 研究背景 | 第24-26页 |
3.2 样品的合成 | 第26-27页 |
3.3 含水玄武岩玻璃的布里渊实验 | 第27-34页 |
3.3.1 布里渊散射简介 | 第27-28页 |
3.3.2 含水硅酸盐玻璃的布里渊散射 | 第28-34页 |
3.4 含水玄武岩玻璃的拉曼研究 | 第34-36页 |
3.4.1 拉曼光谱原理简介 | 第34-35页 |
3.4.2 含水玄武岩玻璃的高压拉曼光谱测量 | 第35-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-38页 |
第四章 高压下含水玄武岩玻璃的阻抗谱测量 | 第38-44页 |
4.1 交流阻抗谱的原理 | 第38-39页 |
4.2 交流阻抗谱的分析方法 | 第39-41页 |
4.3 高压下含水玄武岩玻璃的交流阻抗谱测量 | 第41-43页 |
4.4 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-51页 |
作者简介 | 第51-52页 |
致谢 | 第52页 |