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铜系列复合膜材料的制备及其三阶非线性的研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第12-18页
    1.1 非线性光学的概述第12-13页
        1.1.1 非线性光学的意义第12页
        1.1.2 非线性光学的发展第12-13页
    1.2 金属氧化物及含氧酸盐膜材料的三阶非线性光学研究进展第13-16页
        1.2.1 铜氧化物及含氧酸盐复合膜材料的三阶非线性第13-15页
        1.2.2 钛氧化物及含氧酸盐复合膜材料的三阶非线性第15-16页
    1.3 本论文研究的意义与主要内容第16-18页
第二章 实验内容与测试表征技术第18-26页
    2.1 引言第18页
    2.2 实验内容第18-22页
        2.2.1 实验原料第18-19页
        2.2.2 实验仪器第19页
        2.2.3 实验工艺与方法第19-22页
    2.3 测试与表征第22-26页
        2.3.1 X射线粉末衍射(XRD)第22-23页
        2.3.2 扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)第23页
        2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)[27]第23页
        2.3.4 透射电子显微镜(TEM)[28]第23-24页
        2.3.5 原子力显微镜(AFM)[29]第24页
        2.3.6 紫外可见吸收光谱(UV-Vis)[30]第24页
        2.3.7 Z扫描测试第24-26页
第三章 Ca_2CuO_3微晶玻璃膜的制备及其三阶非线性的研究第26-38页
    3.1 引言第26-27页
    3.2 实验部分第27-29页
        3.2.1 实验制备第27-28页
        3.2.2 样品的表征第28-29页
    3.3 结果与讨论第29-36页
        3.3.1 X射线衍射分析(XRD)第29-30页
        3.3.2 表面与截面的微结构分析第30-31页
        3.3.3 微晶膜元素组成与价态分析第31-32页
        3.3.4 拉曼光谱分析第32-33页
        3.3.5 三阶非线性光学性质第33-36页
    3.4 本章小结第36-38页
第四章 CaCuO_2/CaCu_2O_3薄膜的制备及其三阶非线性的研究第38-52页
    4.1 引言第38-39页
    4.2 实验内容第39-41页
        4.2.1 新制铜氧化物薄膜的磁控溅射制备过程第39-40页
        4.2.2 CaCuO_2/CaCu_2O_3薄膜的退火制备过程第40-41页
        4.2.3 样品表征第41页
    4.3 结果与讨论第41-51页
        4.3.1 X射线衍射分析(XRD)第41-43页
        4.3.2 薄膜的形貌和表面的元素分析(SEM、EDS)第43-45页
        4.3.3 透射电子显微镜(TEM)分析第45-47页
        4.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS)第47-48页
        4.3.5 薄膜的线性和非线性光学性质分析第48-51页
    4.4 本章小结第51-52页
第五章 CuO/CaTi_4O_9薄膜的制备及其三阶非线性的研究第52-66页
    5.1 引言第52-53页
    5.2 实验内容第53-54页
        5.2.1 新制薄膜的制备第53页
        5.2.2 CCTO薄膜的制备第53-54页
    5.3 表征与分析第54-64页
        5.3.1 薄膜样品表征第54页
        5.3.2 不同条件处理下薄膜的相变分析(XRD)第54-55页
        5.3.3 CCTO薄膜的表面形貌和组成分析(SEM、AFM)第55-57页
        5.3.4 CCTO薄膜的表面元素与价态分析(XPS)第57-59页
        5.3.5 CCTO薄膜的截面透射电子显微镜(TEM)的分析(含EDX)第59-61页
        5.3.6 CCTO薄膜的线性和非线性光学性质的分析第61-64页
    5.4 本章小结第64-66页
第六章 结论与展望第66-68页
    6.1 结论第66-67页
    6.2 未来的工作展望第67-68页
参考文献第68-76页
致谢第76-78页
硕士期间已发表的论文第78页
参与科研项目第78页

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