摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-18页 |
1.1 非线性光学的概述 | 第12-13页 |
1.1.1 非线性光学的意义 | 第12页 |
1.1.2 非线性光学的发展 | 第12-13页 |
1.2 金属氧化物及含氧酸盐膜材料的三阶非线性光学研究进展 | 第13-16页 |
1.2.1 铜氧化物及含氧酸盐复合膜材料的三阶非线性 | 第13-15页 |
1.2.2 钛氧化物及含氧酸盐复合膜材料的三阶非线性 | 第15-16页 |
1.3 本论文研究的意义与主要内容 | 第16-18页 |
第二章 实验内容与测试表征技术 | 第18-26页 |
2.1 引言 | 第18页 |
2.2 实验内容 | 第18-22页 |
2.2.1 实验原料 | 第18-19页 |
2.2.2 实验仪器 | 第19页 |
2.2.3 实验工艺与方法 | 第19-22页 |
2.3 测试与表征 | 第22-26页 |
2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第22-23页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS) | 第23页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)[27] | 第23页 |
2.3.4 透射电子显微镜(TEM)[28] | 第23-24页 |
2.3.5 原子力显微镜(AFM)[29] | 第24页 |
2.3.6 紫外可见吸收光谱(UV-Vis)[30] | 第24页 |
2.3.7 Z扫描测试 | 第24-26页 |
第三章 Ca_2CuO_3微晶玻璃膜的制备及其三阶非线性的研究 | 第26-38页 |
3.1 引言 | 第26-27页 |
3.2 实验部分 | 第27-29页 |
3.2.1 实验制备 | 第27-28页 |
3.2.2 样品的表征 | 第28-29页 |
3.3 结果与讨论 | 第29-36页 |
3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
3.3.2 表面与截面的微结构分析 | 第30-31页 |
3.3.3 微晶膜元素组成与价态分析 | 第31-32页 |
3.3.4 拉曼光谱分析 | 第32-33页 |
3.3.5 三阶非线性光学性质 | 第33-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-38页 |
第四章 CaCuO_2/CaCu_2O_3薄膜的制备及其三阶非线性的研究 | 第38-52页 |
4.1 引言 | 第38-39页 |
4.2 实验内容 | 第39-41页 |
4.2.1 新制铜氧化物薄膜的磁控溅射制备过程 | 第39-40页 |
4.2.2 CaCuO_2/CaCu_2O_3薄膜的退火制备过程 | 第40-41页 |
4.2.3 样品表征 | 第41页 |
4.3 结果与讨论 | 第41-51页 |
4.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第41-43页 |
4.3.2 薄膜的形貌和表面的元素分析(SEM、EDS) | 第43-45页 |
4.3.3 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第45-47页 |
4.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第47-48页 |
4.3.5 薄膜的线性和非线性光学性质分析 | 第48-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-52页 |
第五章 CuO/CaTi_4O_9薄膜的制备及其三阶非线性的研究 | 第52-66页 |
5.1 引言 | 第52-53页 |
5.2 实验内容 | 第53-54页 |
5.2.1 新制薄膜的制备 | 第53页 |
5.2.2 CCTO薄膜的制备 | 第53-54页 |
5.3 表征与分析 | 第54-64页 |
5.3.1 薄膜样品表征 | 第54页 |
5.3.2 不同条件处理下薄膜的相变分析(XRD) | 第54-55页 |
5.3.3 CCTO薄膜的表面形貌和组成分析(SEM、AFM) | 第55-57页 |
5.3.4 CCTO薄膜的表面元素与价态分析(XPS) | 第57-59页 |
5.3.5 CCTO薄膜的截面透射电子显微镜(TEM)的分析(含EDX) | 第59-61页 |
5.3.6 CCTO薄膜的线性和非线性光学性质的分析 | 第61-64页 |
5.4 本章小结 | 第64-66页 |
第六章 结论与展望 | 第66-68页 |
6.1 结论 | 第66-67页 |
6.2 未来的工作展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
硕士期间已发表的论文 | 第78页 |
参与科研项目 | 第78页 |