| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 银的回收处理方法概述 | 第11-15页 |
| 1.1.1 引言 | 第11页 |
| 1.1.2 银常用回收处理方法 | 第11-12页 |
| 1.1.3 吸附法回收银的研究进展 | 第12-15页 |
| 1.2 吸附基本理论 | 第15-18页 |
| 1.2.1 吸附原理 | 第15页 |
| 1.2.2 吸附动力学研究 | 第15-17页 |
| 1.2.3 吸附等温线研究 | 第17-18页 |
| 1.3 纳米二氧化硅的结构与应用 | 第18页 |
| 1.3.1 纳米二氧化硅的结构 | 第18页 |
| 1.3.2 纳米二氧化硅在吸附金属离子领域的应用 | 第18页 |
| 1.4 纳米二氧化硅的表面修饰方法 | 第18-21页 |
| 1.4.1 表面物理修饰 | 第19页 |
| 1.4.2 表面化学修饰 | 第19-21页 |
| 1.4.3 物理化学同步修饰 | 第21页 |
| 1.5 研究背景和内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验设备、试剂和表征方法 | 第23-27页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 实验表征方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 傅里叶红外光谱分析 | 第24页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱分析 | 第24-25页 |
| 2.2.3 透射电镜分析 | 第25页 |
| 2.2.4 Zeta电位分析 | 第25页 |
| 2.2.5 热重分析 | 第25页 |
| 2.3 试验工艺与方法 | 第25-26页 |
| 2.4 吸附剂的吸附性能评估 | 第26-27页 |
| 第三章 磺乙基改性二氧化硅对银离子的吸附性能研究 | 第27-39页 |
| 3.1 实验部分 | 第27-28页 |
| 3.1.1 磺乙基改性二氧化硅的制备 | 第27-28页 |
| 3.1.2 吸附实验 | 第28页 |
| 3.2 磺乙基改性二氧化硅的表征 | 第28-31页 |
| 3.2.1 透射电镜(TEM)表征分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 红外光谱(FT-IR)表征分析 | 第29-30页 |
| 3.2.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第30-31页 |
| 3.2.4 热重(TGA)分析 | 第31页 |
| 3.3 磺乙基改性二氧化硅对银离子的吸附性能研究 | 第31-37页 |
| 3.3.1 溶液初始pH值对吸附银离子的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.2 吸附时间对吸附银离子的影响 | 第32-33页 |
| 3.3.3 等温吸附模型研究 | 第33-34页 |
| 3.3.4 吸附动力学研究 | 第34-35页 |
| 3.3.5 吸附机理分析 | 第35-36页 |
| 3.3.6 吸附剂对银离子的选择性吸附研究 | 第36-37页 |
| 3.3.7 不同吸附剂对银离子的吸附性能比较 | 第37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 羧甲基-二硫代氨基甲酸酯改性二氧化硅对银离子吸附性能研究 | 第39-49页 |
| 4.1 实验部分 | 第39-40页 |
| 4.1.1 羧甲基-二硫代氨基甲酸酯改性二氧化硅的制备 | 第39-40页 |
| 4.1.2 吸附实验 | 第40页 |
| 4.2 羧甲基-二硫代氨基甲酸酯改性二氧化硅的表征 | 第40-44页 |
| 4.2.1 透射电镜(TEM)表征分析 | 第40-41页 |
| 4.2.2 红外光谱(FT-IR)表征分析 | 第41-42页 |
| 4.2.3 X射线光电子能谱(XPS)表征分析 | 第42-44页 |
| 4.2.4 热重(TGA)分析 | 第44页 |
| 4.3 羧甲基-二硫代氨基甲酸酯改性二氧化硅对银离子的吸附性能研究 | 第44-48页 |
| 4.3.1 溶液初始pH值对吸附银离子的影响 | 第44-45页 |
| 4.3.2 吸附时间对吸附银离子的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.3 等温吸附模型研究 | 第46页 |
| 4.3.4 吸附动力学研究 | 第46-47页 |
| 4.3.5 对银离子的选择性吸附研究 | 第47-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 三聚硫氰酸改性二氧化硅对银离子吸附性能研究 | 第49-61页 |
| 5.1 实验部分 | 第49-51页 |
| 5.1.1 三聚硫氰酸改性二氧化硅的制备 | 第49-50页 |
| 5.1.2 吸附实验 | 第50-51页 |
| 5.2 三聚硫氰酸改性二氧化硅的表征 | 第51-53页 |
| 5.2.1 透射电镜(TEM)表征分析 | 第51页 |
| 5.2.2 红外光谱(FT-IR)表征分析 | 第51-52页 |
| 5.2.3 X射线光电子能谱(XPS)表征分析 | 第52-53页 |
| 5.3 三聚硫氰酸改性二氧化硅对银离子的吸附性能研究 | 第53-59页 |
| 5.3.1 溶液初始pH值对吸附银离子的影响 | 第53-54页 |
| 5.3.2 吸附时间对吸附银离子的影响 | 第54页 |
| 5.3.3 等温吸附模型研究 | 第54-55页 |
| 5.3.4 吸附动力学研究 | 第55-56页 |
| 5.3.5 吸附剂对银离子的选择性吸附研究 | 第56-57页 |
| 5.3.6 吸附剂的重复使用研究 | 第57页 |
| 5.3.7 吸附机理分析 | 第57-58页 |
| 5.3.8 不同吸附材料对银离子的吸附性能比较 | 第58-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 附录 | 第71页 |
