| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 氮化铜薄膜概述 | 第8-10页 |
| 1.1.1 氮化铜薄膜简介 | 第8-9页 |
| 1.1.2 氮化铜薄膜应用 | 第9-10页 |
| 1.2 光存储概述 | 第10-11页 |
| 1.2.1 光存储简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 光存储应用 | 第11页 |
| 1.3 氮化铜薄膜的光存储应用研究的意义 | 第11-13页 |
| 1.4 本章小结 | 第13-14页 |
| 第二章 氮化铜薄膜和光存储的相关知识介绍 | 第14-24页 |
| 2.1 氮化铜薄膜介绍 | 第14-20页 |
| 2.1.1 氮化铜薄膜的结构 | 第14-15页 |
| 2.1.2 氮化铜薄膜的研究现状 | 第15-18页 |
| 2.1.3 氮化铜薄膜的制备原理 | 第18-20页 |
| 2.2 光存储介绍 | 第20-23页 |
| 2.2.1 光存储器的结构 | 第20-21页 |
| 2.2.2 光存储器的研究现状 | 第21-22页 |
| 2.2.3 光存储器记录和读取的原理 | 第22-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 基于氮化铜薄膜光存储器的研究与设计 | 第24-31页 |
| 3.1 基于氮化铜薄膜一次写入型光盘的研究与设计 | 第24-26页 |
| 3.1.1 光盘的结构 | 第25页 |
| 3.1.2 光盘的记录和读取方式 | 第25-26页 |
| 3.1.3 光盘的制备方法 | 第26页 |
| 3.2 基于氮化铜薄膜一次写入型双面光盘的研究与设计 | 第26-28页 |
| 3.2.1 双面光盘的结构 | 第26-27页 |
| 3.2.2 双面光盘的记录和读取方式 | 第27-28页 |
| 3.2.3 双面光盘的制备方法 | 第28页 |
| 3.3 基于氮化铜薄膜一次写入型多层波导光存储器的研究与设计 | 第28-30页 |
| 3.3.1 多层波导光存储器的结构 | 第28-29页 |
| 3.3.2 多层波导光存储器的记录和读取方式 | 第29页 |
| 3.3.3 多层波导光存储器的制备方法 | 第29-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 基于氮化铜薄膜光存储器的制备及信息记录研究 | 第31-38页 |
| 4.1 基于氮化铜薄膜一次写入型光盘样品的制备 | 第31-35页 |
| 4.1.1 磁控溅射仪器介绍 | 第31-33页 |
| 4.1.2 利用磁控溅射的方法制备氮化铜薄膜 | 第33-34页 |
| 4.1.3 利用氮化铜薄膜制备一次写入型光盘样品 | 第34页 |
| 4.1.4 样品制备结果 | 第34-35页 |
| 4.2 基于氮化铜薄膜一次写入型光盘样品的信息记录 | 第35-37页 |
| 4.2.1 Surelite 激光器介绍 | 第35页 |
| 4.2.2 掩模板介绍 | 第35-36页 |
| 4.2.3 光盘样品的信息记录 | 第36-37页 |
| 4.2.4 信息记录结果 | 第37页 |
| 4.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 基于氮化铜薄膜光存储器的信息读取及性能研究 | 第38-47页 |
| 5.1 基于氮化铜薄膜一次写入型光盘样品的信息读取 | 第38-41页 |
| 5.1.1 激光扫描共聚焦显微镜介绍 | 第38-39页 |
| 5.1.2 光盘样品的信息读取 | 第39页 |
| 5.1.3 信息读取结果 | 第39-41页 |
| 5.2 基于氮化铜薄膜光存储器的性能研究 | 第41-46页 |
| 5.2.1 信息记录前后 X 射线衍射谱(XRD)分析 | 第41-42页 |
| 5.2.2 信息记录前后扫描电子显微镜图(SEM)分析 | 第42-44页 |
| 5.2.3 信息记录前后 X 射线能谱（EDS）分析 | 第44-46页 |
| 5.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 总结与展望 | 第47-49页 |
| 6.1 总结 | 第47-48页 |
| 6.2 展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第55-56页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第56-57页 |
| 附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
