| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 高熵合金的研究现状与发展 | 第10-13页 |
| 1.2 高熵合金薄膜的研究现状与发展 | 第13-16页 |
| 1.3 磁控溅射原理 | 第16-19页 |
| 1.3.1 薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 磁控溅射镀膜 | 第17-19页 |
| 1.3.3 射频磁控溅射制备薄膜的工艺参数 | 第19页 |
| 1.4 材料腐蚀性能测试方法 | 第19-20页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 课题研究主要目标 | 第20页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第20页 |
| 1.5.3 拟解决的关键性问题 | 第20-22页 |
| 第2章 实验方法及设备 | 第22-26页 |
| 2.1 高熵合金靶材的成分设计 | 第22页 |
| 2.2 实验材料 | 第22页 |
| 2.3 薄膜样品的制备 | 第22-23页 |
| 2.4 靶材与薄膜样品的成分表征 | 第23-24页 |
| 2.5 薄膜样品的结构表征 | 第24页 |
| 2.6 薄膜样品的厚度和形貌表征 | 第24页 |
| 2.7 薄膜样品的腐蚀性能分析 | 第24-26页 |
| 第3章 薄膜的成分﹑微观组织结构及制备工艺研究 | 第26-37页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 薄膜成分的验证 | 第26-27页 |
| 3.3 薄膜结构的研究 | 第27-36页 |
| 3.3.1 溅射功率对薄膜的结构﹑厚度和表面形貌的影响 | 第27-30页 |
| 3.3.2 溅射基底温度对薄膜的结构﹑表面形貌和厚度的影响 | 第30-32页 |
| 3.3.3 溅射时间对薄膜结构﹑表面形貌以及厚度的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.4 不同温度，大溅射功率及长溅射时间下制备的高熵合金薄膜的结构 | 第34-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 FeCrCoNiMn高熵合金薄膜的腐蚀性能研究 | 第37-50页 |
| 4.1 不同基底温度溅射的FeCrCoNiMn高熵合金薄膜在 1 mol/L H_2SO_4溶液中的腐蚀性规律 | 第37-42页 |
| 4.2 不同基底温度溅射的FeCrCoNiMn高熵合金薄膜在 1 mol/L Na OH溶液中的腐蚀性规律 | 第42-44页 |
| 4.3 不同基底温度溅射的FeCrCoNiMn高熵合金薄膜在 3.5% Na Cl溶液中的耐腐蚀性规律 | 第44-49页 |
| 4.4 本章总结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 今后工作建议及展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第57页 |
