离子束溅射制备Ta2O3/SiO2薄膜的应力特性研究
| 致谢 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.3 论文概述 | 第12-13页 |
| 第2章 离子束溅射技术 | 第13-23页 |
| 2.1 离子束溅射沉积的原理及结构 | 第13-17页 |
| 2.1.1 离子束溅射沉积的原理 | 第13-15页 |
| 2.1.2 离子溅射沉积的系统结构 | 第15-17页 |
| 2.2 离子束溅射技术的工艺参数控制 | 第17-19页 |
| 2.2.1 基板温度的影响 | 第18页 |
| 2.2.2 离子源束压的影响 | 第18-19页 |
| 2.2.3 氧分压的影响 | 第19页 |
| 2.3 光学特性参数的测量 | 第19-22页 |
| 2.3.1 光谱曲线测试 | 第19-20页 |
| 2.3.2 光学常数和厚度的计算 | 第20-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 薄膜应力 | 第23-32页 |
| 3.1 光学薄膜的特性 | 第23-25页 |
| 3.1.1 光学特性 | 第23-25页 |
| 3.1.2 机械特性 | 第25页 |
| 3.2 应力的起源 | 第25-28页 |
| 3.2.1 应力的分类 | 第25-26页 |
| 3.2.2 应力的计算与基底曲率 | 第26-28页 |
| 3.3 应力的控制 | 第28页 |
| 3.4 应力的测量方法 | 第28-31页 |
| 3.4.1 扫描激光法 | 第28-29页 |
| 3.4.2 多束光学应力敏感技术 | 第29-30页 |
| 3.4.3 光栅反射法 | 第30-31页 |
| 3.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 应力实验研究 | 第32-57页 |
| 4.1 Ta_2O_5单层膜的实验研究 | 第32-41页 |
| 4.1.1 Ta_2O_5单层膜的制备 | 第32-33页 |
| 4.1.2 Ta_2O_5单层膜应力特性研究 | 第33-41页 |
| 4.2 SiO_2单层膜的实验研究 | 第41-50页 |
| 4.2.1 SiO_2单层膜的制备 | 第41页 |
| 4.2.2 SiO_2单层膜的应力特性研究 | 第41-50页 |
| 4.4 高低温冲击实验来释放应力 | 第50-51页 |
| 4.5 多层膜的实验研究 | 第51-56页 |
| 4.5.1 薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 4.5.2 实验结果分析 | 第52-56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 仿真分析 | 第57-64页 |
| 5.1 有限元基本理论 | 第57-61页 |
| 5.1.1 弹性力学中的变量 | 第57-58页 |
| 5.1.2 基本方程 | 第58-60页 |
| 5.1.3 边界条件 | 第60-61页 |
| 5.2 有限元方程的建立 | 第61-62页 |
| 5.2.1 最小势能原理 | 第61-62页 |
| 5.2.2 有限元的分析过程 | 第62页 |
| 5.3 仿真模型的建立 | 第62-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64页 |
| 第6章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第70页 |
