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平面撞击流反应器流动模式、混合机理及过程强化研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 前言第14-16页
    1.1 研究背景第14页
    1.2 研究内容第14-15页
    1.3 论文的主要创新点第15-16页
第2章 文献综述第16-36页
    2.1 撞击流概述第16-18页
        2.1.1 撞击流的原理及分类第16页
        2.1.2 撞击流反应器的应用第16-18页
    2.2 撞击流不稳定性研究进展第18-20页
    2.3 撞击流反应器内流动模式研究进展第20-26页
        2.3.1 轴对称撞击流反应器内的流动模式第20-21页
        2.3.2 T型反应器内的流动模式第21-25页
        2.3.3 流动模式的临界参数第25-26页
    2.4 撞击流反应器混合及强化研究进展第26-34页
        2.4.1 混合概述第26-29页
        2.4.2 撞击流反应器内混合研究进展第29-32页
        2.4.3 撞击流反应器混合强化研究进展第32-34页
    2.5 文献综述小结第34-36页
第3章 自由平面撞击流的流动特性和影响因素第36-59页
    3.1 实验装置与流程第36-38页
    3.2 平面射流的流动形态第38-39页
    3.3 平面撞击流的流动模式及参数空间第39-41页
        3.3.1 平面撞击流的流动模式第39-40页
        3.3.2 流动模式的参数空间第40-41页
    3.4 偏转振荡特征和影响因素第41-49页
        3.4.1 偏转振荡特征第41-44页
        3.4.2 偏转振荡的影响因素第44-47页
        3.4.3 偏转振荡的机制第47-49页
    3.5 平面撞击流的数值模拟第49-58页
        3.5.1 湍流模型描述第49-50页
        3.5.2 边界条件及数值模拟方法描述第50-51页
        3.5.3 模拟结果和讨论第51-58页
    3.6 本章小结第58-59页
第4章 平面撞击流反应器内的流动特性第59-74页
    4.1 实验装置与流程第59-61页
    4.2 平面撞击流反应器内的偏转振荡第61-63页
    4.3 结构参数对偏转振荡的影响第63-68页
        4.3.1 射流间距的影响第63-64页
        4.3.2 反应器腔室深度的影响第64-66页
        4.3.3 射流宽高比的影响第66-67页
        4.3.4 腔室顶部空间的影响第67-68页
    4.4 偏转振荡的临界雷诺数和无因次周期第68-70页
    4.5 结果讨论第70-73页
        4.5.1 数值模拟验证第70-71页
        4.5.2 部分实验结果讨论第71-73页
    4.6 本章小结第73-74页
第5章 平面撞击流及反应器内激励振荡特性第74-95页
    5.1 平面撞击流的激励振荡特征第74-80页
        5.1.1 实验流程第74-75页
        5.1.2 激励平面射流第75-76页
        5.1.3 激励平面撞击流第76-80页
    5.2 平面撞击流反应器内激励振荡特征第80-93页
        5.2.1 实验装置与流程第80-82页
        5.2.2 实验结果第82-92页
        5.2.3 结果讨论第92-93页
    5.3 本章小结第93-95页
第6章 平面撞击流反应器内的混合及激励强化第95-118页
    6.1 实验流程和方法第95-98页
    6.2 平面撞击流反应器内混合特性第98-106页
        6.2.1 浓度显示第98-100页
        6.2.2 浓度分布第100-102页
        6.2.3 离析度第102-104页
        6.2.4 混合时间第104-106页
    6.3 平面撞击流反应器的激励混合特性第106-112页
    6.4 甘油水溶液的混合及激励强化第112-117页
        6.4.1 甘油水溶液的混合特性第112-115页
        6.4.2 甘油水溶液的激励混合特性第115-117页
    6.5 本章小结第117-118页
第7章 全文总结与展望第118-120页
    7.1 全文总结第118-119页
    7.2 展望第119-120页
参考文献第120-129页
致谢第129-130页
博士在读期间发表论文第130页

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