| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 光电化学分解水的基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3 TiO_2光催化技术的研究与发展 | 第13-14页 |
| 1.4 提高TiO_2光催化性能的途径 | 第14-19页 |
| 1.4.1 选择合适的晶型结构 | 第14页 |
| 1.4.2 合适的晶粒尺寸 | 第14-15页 |
| 1.4.3 复合半导体 | 第15-16页 |
| 1.4.4 金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| 1.4.5 非金属元素掺杂 | 第17页 |
| 1.4.6 金属表面沉积 | 第17-18页 |
| 1.4.7 有机染料光敏化 | 第18-19页 |
| 1.5 半导体光电化学的基本概念 | 第19-22页 |
| 1.5.1 带边位置 | 第19页 |
| 1.5.2 空间电荷层 | 第19-20页 |
| 1.5.3 平带电势 | 第20-21页 |
| 1.5.4 光电转化量子效率 | 第21-22页 |
| 1.6 TiO_2纳米材料在光电化学方面的应用 | 第22-23页 |
| 1.6.1 太阳能电池 | 第22页 |
| 1.6.2 光催化剂 | 第22页 |
| 1.6.3 光解水制氢 | 第22-23页 |
| 1.6.4 超亲水性膜层 | 第23页 |
| 1.7 论文选题背景及研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验设计 | 第25-36页 |
| 2.1 薄膜制备技术 | 第25-30页 |
| 2.1.1 简介 | 第25页 |
| 2.1.2 激光分子束外延(L-MBE) | 第25页 |
| 2.1.3 L-MBE的结构 | 第25-26页 |
| 2.1.4 反射高能电子衍射(RHEED)的原位检测 | 第26-29页 |
| 2.1.5 衬底处理技术 | 第29-30页 |
| 2.2 薄膜的分析与表征方法 | 第30-33页 |
| 2.2.1 简介 | 第30-31页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM)分析 | 第31-32页 |
| 2.2.3 X射线衍射(XRD)分析 | 第32页 |
| 2.2.4 小角度X射线反射(XRR)分析,, | 第32-33页 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| 2.3 光电化学测试方法 | 第33-36页 |
| 2.3.1 恒电位阶跃曲线(i-t) | 第34页 |
| 2.3.2 莫特-肖特基(mott-schottky)曲线图 | 第34页 |
| 2.3.3 电化学阻抗图 | 第34-35页 |
| 2.3.4 光电转换效率(IPCE) | 第35-36页 |
| 第3章 TiO_2/SrRuO_3异质结的制备及其光电化学性质的研究 | 第36-49页 |
| 3.1 引言 | 第36-38页 |
| 3.2 薄膜生长工艺 | 第38-39页 |
| 3.3 薄膜结构分析 | 第39-42页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 XRR分析 | 第40页 |
| 3.3.3 AFM分析 | 第40-41页 |
| 3.3.4 RHEED分析 | 第41-42页 |
| 3.4 光电化学性能分析 | 第42-47页 |
| 3.4.1 恒电位阶跃曲线 | 第42-43页 |
| 3.4.2 莫特-肖特基曲线图 | 第43-45页 |
| 3.4.3 电化学阻抗谱图 | 第45-46页 |
| 3.4.4 光电转换效率(IPCE) | 第46-47页 |
| 3.5 讨论及小结 | 第47-49页 |
| 第4章 TiO_2/LaTiO3/SrRuO_3的制备及其光电化学性质的研究 | 第49-57页 |
| 4.1 引言 | 第49-50页 |
| 4.2 薄膜制作工艺 | 第50页 |
| 4.3 薄膜结构分析 | 第50-52页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第50-51页 |
| 4.3.2 RHEED分析 | 第51页 |
| 4.3.3 AFM分析 | 第51-52页 |
| 4.4 光电化学性能分析 | 第52-55页 |
| 4.4.1 恒电位阶跃曲线 | 第52-53页 |
| 4.4.2 莫特-肖特基曲线图 | 第53-54页 |
| 4.4.3 电化学阻抗谱 | 第54-55页 |
| 4.4.4 光电转换效率(IPCE) | 第55页 |
| 4.5 讨论与小结 | 第55-57页 |
| 第5章 Au纳米颗粒修饰及其光电化学性能 | 第57-66页 |
| 5.1 引言 | 第57-59页 |
| 5.2 金纳米颗粒制作工艺 | 第59-60页 |
| 5.2.1 金纳米薄膜制作 | 第59页 |
| 5.2.2 金纳米颗粒制作 | 第59-60页 |
| 5.3 金纳米颗粒结构 | 第60-61页 |
| 5.3.1 XRD | 第60页 |
| 5.3.2 SEM | 第60-61页 |
| 5.4 光电化学性能 | 第61-65页 |
| 5.4.1 恒电位阶跃曲线 | 第61-62页 |
| 5.4.2 光电转换效率(IPCE) | 第62-63页 |
| 5.4.3 莫特-肖特基曲线 | 第63-64页 |
| 5.4.4 电化学阻抗谱 | 第64-65页 |
| 5.5 讨论与小结 | 第65-66页 |
| 第6章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66页 |
| 6.2 工作展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
