脉冲激光诱导向前转移关键技术研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| Contents | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-24页 |
| 1.3 研究内容与特色 | 第24-25页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第24页 |
| 1.3.2 研究特色 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方案 | 第25-30页 |
| 2.1 实验平台方案 | 第25-27页 |
| 2.2 实验样品准备 | 第27-29页 |
| 2.3 工艺实验方法 | 第29页 |
| 2.4 本章小节 | 第29-30页 |
| 第三章 单脉冲激光碳化硅转移实验 | 第30-45页 |
| 3.1 实验原理 | 第30页 |
| 3.2 使用碳化硅悬浊液的实验 | 第30-32页 |
| 3.3 使用碳化硅涂层的实验 | 第32-34页 |
| 3.4 激光波长的影响 | 第34-35页 |
| 3.5 其他参数对转移结果的影响 | 第35-41页 |
| 3.5.1 激光脉冲能量对转移结果的影响 | 第35-38页 |
| 3.5.2 接收距离对转移结果的影响 | 第38-39页 |
| 3.5.3 离焦距离对转移结果的影响 | 第39-41页 |
| 3.6 正交实验 | 第41-43页 |
| 3.7 本章小节 | 第43-45页 |
| 第四章 多脉冲碳化硅连续微结构 | 第45-51页 |
| 4.1 连续微线制备 | 第45-49页 |
| 4.2 大面积涂层制备 | 第49-50页 |
| 4.3 本章小节 | 第50-51页 |
| 第五章 激光铜箔转移实验 | 第51-58页 |
| 5.1 实验原理 | 第51-52页 |
| 5.2 基本转移现象 | 第52-53页 |
| 5.3 正交实验 | 第53-55页 |
| 5.4 铜线制作 | 第55-56页 |
| 5.5 转移的金属线电阻率的测量 | 第56-57页 |
| 5.6 本章小节 | 第57-58页 |
| 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
