| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-15页 |
| 1.1.1 常见的电感器件 | 第12-13页 |
| 1.1.2 微电感的实现方法 | 第13-14页 |
| 1.1.3 磁芯微电感的应用及不足 | 第14-15页 |
| 1.2 磁芯微电感研究现状 | 第15-27页 |
| 1.2.1 空心结构微电感 | 第16-17页 |
| 1.2.2 磁芯结构微电感 | 第17-19页 |
| 1.2.3 微电感的高频磁芯薄膜材料 | 第19-21页 |
| 1.2.3.1 磁芯薄膜材料高频特性测试 | 第19-20页 |
| 1.2.3.2 铁钴高频磁芯材料 | 第20-21页 |
| 1.2.4 具有不同磁芯拓扑结构的微电感 | 第21-26页 |
| 1.2.4.1 采用分层磁芯 | 第21-22页 |
| 1.2.4.2 采用分段磁芯 | 第22-24页 |
| 1.2.4.3 采用手指型磁通孔磁芯 | 第24-26页 |
| 1.2.5 磁芯微加工工艺方法 | 第26-27页 |
| 1.3 磁芯微电感现存的问题 | 第27-28页 |
| 1.4 针对磁芯微电感现存问题的解决方法 | 第28-29页 |
| 1.5 本论文的主要内容与安排 | 第29-32页 |
| 第二章 用于磁芯微电感的磁芯材料评估方法研究 | 第32-52页 |
| 2.1 磁芯微电感基本参数 | 第32-33页 |
| 2.2 微电感磁芯材料性能要求 | 第33-35页 |
| 2.3 软磁薄膜磁芯材料制备方法 | 第35页 |
| 2.4 软磁薄膜磁芯的高频特性及磁导率的评估方法 | 第35-38页 |
| 2.4.1 利用静态磁滞回线相关参数评估磁芯的铁磁共振频率 | 第36页 |
| 2.4.2 利用“双十”规则评估磁芯的磁导率 | 第36-38页 |
| 2.4.3 长方形磁芯材料的总体性能评估步骤 | 第38页 |
| 2.5 利用铁基磁芯材料对提出的评估方法进行验证分析 | 第38-46页 |
| 2.5.1 铁基合金软磁薄膜的制备 | 第39-40页 |
| 2.5.2 铁基合金软磁薄膜性能表征 | 第40-43页 |
| 2.5.3 铁基合金薄膜铁磁共振频率的实验值与理论值对比 | 第43-45页 |
| 2.5.4 铁基合金软磁薄膜磁导率的实验值与理论值对比 | 第45-46页 |
| 2.6 热处理对三种铁基合金薄膜的磁性能影响 | 第46-50页 |
| 2.6.1 热处理的条件 | 第46-47页 |
| 2.6.2 热处理后铁基软磁薄膜性能表征 | 第47-50页 |
| 2.7 小结 | 第50-52页 |
| 第三章 铁钴双分子膜磁芯材料研究 | 第52-62页 |
| 3.1 Fe/Co和Co/Fe双分子膜的制备与磁性能 | 第52-53页 |
| 3.1.1 Fe/Co和Co/Fe双分子膜的制备 | 第52页 |
| 3.1.2 Fe/Co和Co/Fe双分子膜的磁性能 | 第52-53页 |
| 3.2 热处理对Fe/Co和Co/Fe双分子膜的影响 | 第53-60页 |
| 3.2.1 热处理的条件 | 第53-54页 |
| 3.2.2 热处理后Fe/Co和Co/Fe双分子膜的性能表征 | 第54-60页 |
| 3.3 小结 | 第60-62页 |
| 第四章 磁芯微电感的线圈和磁芯拓扑结构优化设计 | 第62-86页 |
| 4.1 磁芯微电感线圈拓扑结构优化设计 | 第62-67页 |
| 4.1.1 线圈几何形状设计 | 第63页 |
| 4.1.2 线圈匝数设计 | 第63-64页 |
| 4.1.3 线圈厚度设计 | 第64-65页 |
| 4.1.4 线圈宽度和线间距设计 | 第65-66页 |
| 4.1.5 总结 | 第66-67页 |
| 4.2 磁芯微电感磁芯拓扑结构优化设计 | 第67-82页 |
| 4.2.1 长方形磁芯覆盖方案设计 | 第68-72页 |
| 4.2.2 手指型磁通孔磁芯结构设计 | 第72-75页 |
| 4.2.3 分层磁芯拓扑结构设计 | 第75-77页 |
| 4.2.4 分段磁芯拓扑结构设计 | 第77-81页 |
| 4.2.5 总结 | 第81-82页 |
| 4.3 磁芯微电感版图优化设计 | 第82-83页 |
| 4.4 小结 | 第83-86页 |
| 第五章 磁芯微电感微加工工艺研究 | 第86-107页 |
| 5.1 主要微加工工艺 | 第86-94页 |
| 5.1.1 热氧化工艺 | 第86-87页 |
| 5.1.2 磁控溅射工艺 | 第87-88页 |
| 5.1.3 电镀工艺 | 第88-89页 |
| 5.1.4 旋涂工艺 | 第89-90页 |
| 5.1.5 光刻工艺 | 第90-92页 |
| 5.1.6 刻蚀工艺 | 第92-93页 |
| 5.1.7 剥离工艺 | 第93-94页 |
| 5.2 关键工艺的改进研究 | 第94-98页 |
| 5.2.1 基于铬膜种子层的磁通孔柱子生长工艺 | 第94-96页 |
| 5.2.2 光刻胶与湿法刻蚀结合的聚酰亚胺平坦化工艺 | 第96-98页 |
| 5.3 基于分层分段磁芯和手指型磁通孔磁芯的微电感制备工艺 | 第98-105页 |
| 5.4 小结 | 第105-107页 |
| 第六章 磁芯微电感性能测试及分析 | 第107-123页 |
| 6.1 微电感参数测试方法 | 第107页 |
| 6.2 微电感等效二端口微波网络 | 第107-109页 |
| 6.3 测试仪器及数据处理方法 | 第109-111页 |
| 6.4 微电感的高频测试结果与分析 | 第111-121页 |
| 6.4.1 直流测试 | 第111-112页 |
| 6.4.2 辅助测试焊盘开路测试 | 第112页 |
| 6.4.3 空心结构微电感 | 第112-113页 |
| 6.4.4 不同磁芯拓扑结构微电感 | 第113-120页 |
| 6.4.5 总结 | 第120-121页 |
| 6.5 小结 | 第121-123页 |
| 第七章 总结与展望 | 第123-129页 |
| 7.1 主要研究工作及成果 | 第123-127页 |
| 7.2 未来工作展望 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-145页 |
| 致谢 | 第145-147页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文、参与科研项目及获奖情况 | 第147-149页 |
