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具有新型栅结构的4H-SiC MESFETs设计及仿真

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
符号对照表第12-14页
缩略语对照表第14-17页
第一章 绪论第17-29页
    1.1 近年来 4H-SiC MESFET的发展现状第19-26页
    1.2 本文的创新点和主要内容第26-29页
        1.2.1 本文的创新点第26页
        1.2.2 主要工作第26页
        1.2.3 主要内容第26-29页
第二章 具有坡形栅结构的 4H-SiC MESFET新结构及其物理模型第29-39页
    2.1 具有坡形栅结构的 4H-SiC MESFET新结构第29-31页
        2.1.1 物理参数第29-30页
        2.1.2 制备工艺第30-31页
    2.2 物理模型及参数第31-36页
        2.2.1 基本模型第31-33页
        2.2.2 仿真的模型和参数第33-36页
    2.3 小结第36-39页
第三章 栅结构对 4H-SiC MESFET的物理特性的影响分析第39-51页
    3.1 双凹栅MESFET与常规结构 4H-SiC MESFET物理特性的对比分析第40-43页
    3.2 阶梯栅MESFET与双凹栅MESFET物理特性参数的对比分析第43-49页
        3.2.1 阶梯栅MESFET与双凹栅MESFET直流特性的对比分析第43-46页
        3.2.2 阶梯栅MESFET与双凹栅MESFET射频特性的对比分析第46-49页
    3.3 坡形栅MESFET的预期物理特性第49-50页
    3.4 小结第50-51页
第四章 坡形栅MESFET的参数仿真与器件优化第51-67页
    4.1 器件特征参数第51-52页
    4.2 物理特性研究及优化第52-63页
        4.2.1 直流特性第52-58页
        4.2.2 射频特性第58-63页
    4.3 小结第63-67页
第五章 总结与展望第67-69页
    5.1 论文总结第67-68页
    5.2 研究展望第68-69页
参考文献第69-73页
致谢第73-75页
作者简介第75-77页

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